[发明专利]一种双向进给的线性液动压抛光装置

说明书

本发明公开了一种双向进给的线性液动压抛光装置，包括机架、横向进给机构、纵向进给机构、回转抛光机构，横向进给机构用于进给工件，回转抛光机构用于抛光工件，纵向进给机构用于调节回转抛光机构的高度。本发明具有的优点是，纵向进给机构能够实现粗调和细调功能，可将抛光间隙精确定位至所需距离。横向进给一方面便于工件的装卸正确定位，一方面可在抛光过程实现工件往复移动，有利于消除工件表面的抛光波纹，避免工件横向各点抛光不均匀。

技术领域

本发明属于抛光机械领域，具体涉及一种双向进给的线性液动压抛光装置。

背景技术

流体抛光技术在加工过程中，抛光工具与工件不发生直接接触,其借助流体驱动磨粒冲击工件表面,从而避免了刚性接触对材料的表面及亚表面的损伤，实现光滑表面加工。

以动压润滑理论为基础的液动压抛光也是流体抛光技术的一种。含有磨粒的抛光液覆盖于抛光轮表面的几何槽型上，在抛光过程中抛光轮与待抛光件在发生相对运动时，抛光液从待抛光件与几何槽型之间间隙较大地方流向间隙较小的地方而形成液动压润滑膜，在磨粒和动压润滑膜的双重作用下均匀快速去除抛光工件表面材料，提高了抛光加工的均匀性和效率。

抛光间隙与往复运动是线性液动压抛光中的重要决定因素，但现有装置抛光间隙为固定单一，未对进给机构进行详尽设计，这不利于对线性液动压抛光工艺的最佳效果的研究与调试以及消除工件表面抛光波纹。此外，现有装置采用全浸没的方式，磨料如氧化铝会结晶在主轴表面，这对主轴精度产生一定的影响。因此设计了双向进给的线性液动压抛光装置来解决以上的问题，优化抛光工艺。

发明内容

本发明的目的是为了解决目前液动压抛光装置抛光间隙为固定单一的问题，提供一种双向进给的线性液动压抛光装置。

为了达到上述发明目的，本发明采用以下技术方案：

一种双向进给的线性液动压抛光装置，包括机架、安装于机架上的横向进给机构、纵向进给机构、回转抛光机构，横向进给机构用于进给工件，回转抛光机构用于抛光工件，纵向进给机构用于调节回转抛光机构的高度，纵向进给机构包括螺纹座、丝杆、第一蜗轮、第一蜗杆、摇柄、第二蜗轮、第二蜗杆和微调旋钮；其中，丝杆纵向布置，可转动安装于机架；螺纹座螺纹配合于丝杆，回转抛光机构安装于螺纹座；第一蜗轮同轴固定于丝杆底部，第一蜗杆与第二蜗轮同轴连接，摇柄用于驱动第一蜗杆和第二蜗轮转动；第一蜗轮联动配合于第一蜗杆；第二蜗杆联动配合于第二蜗轮，微调旋钮用于驱动第二蜗轮转动。

上述纵向进给机构通过螺纹座、丝杆、第一蜗轮、第一蜗杆、摇柄能够实现粗调，通过第二蜗轮、第二蜗杆和微调旋钮能够实现细调，从而可将抛光间隙精确定位至所需距离。

优选地，机架包括底座，底座具有第一导轨；横向进给机构包括工作台、抛光槽、齿条、齿轮和伺服电机；工作台活动安装于第一导轨，齿条固定于工作台；齿轮安装于伺服电机，伺服电机安装于底座，齿轮与齿条联动配合。

优选地，机架还包括固定于底座的两立柱，两立柱分别具有相对设置的第二导轨，螺纹座滑动配合于两第二导轨之间。

优选地，底座的两端安装有接触感应器，工作台两端安装有限位柱，当限位柱触发接触感应器时，伺服电机改变转动方向。

优选地，抛光槽内设置有工件架，工件架内设置电磁铁。

优选地，回转抛光机构包括旋转电机及其驱动的抛光辊子，旋转电机固定于螺纹座，抛光辊子设置于抛光槽内。

优选地，抛光辊子为圆柱体结构，其圆周面均匀分布有用于产生动压力的微槽结构，微槽结构包括圆周面的圆弧部及沿圆周面周向延伸的微槽部。

优选地，微槽结构的微槽部沿抛光辊子轴向的投影为抛物线或直线。

优选地，微槽结构的微槽部沿抛光辊子轴向的投影的圆心角为12-18°，微槽部的最大深度为1-3mm。