[发明专利]外延层厚度测试装置和方法有效
申请号: | 201911107836.0 | 申请日: | 2019-11-13 |
公开(公告)号: | CN111174716B | 公开(公告)日: | 2021-11-02 |
发明(设计)人: | 张凌云;金柱炫 | 申请(专利权)人: | 西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06 |
代理公司: | 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 | 代理人: | 刘长春 |
地址: | 710000 陕西省西安市*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 外延 厚度 测试 装置 方法 | ||
1.一种外延层厚度测试装置,其特征在于,包括红外光源(1)、检测器(2)、载物基座(3)和控制模块(4),其中,
所述红外光源(1)和所述检测器(2)设置在所述载物基座(3)的上方,待测外延片(5)固定在所述载物基座(3)上;
所述控制模块(4)用于控制所述载物基座(3)进行预设轨迹运动,以使所述红外光源(1)的入射光线照射到所述待测外延片(5)的指定位置处,并使得所述入射光线通过所述待测外延片(5)反射至所述检测器(2);
所述检测器(2)用于根据所述入射光线计算所述待测外延片(5)的外延层厚度;
所述控制模块(4)包括参数设定单元(41),用于设定所述待测外延片(5)上测试点的位置坐标和测量次数,所述测试点能够接收所述红外光源(1)的入射光线的照射;
所述控制模块(4)还用于根据所述位置坐标和所述测量次数确定所述载物基座(3)的运动参数以及所述红外光源(1)的光照参数,具体地,当待测外延片上测试点的位置坐标和测量次数设定之后,所述控制模块(4)根据所述红外光源(1)和所述检测器(2)与所述待测外延片(5)的相对位置判断在测试当前测试点时是否会发生能量逸散,从而设定所述载物基座(3)的运动线路、运动速度、旋转速度以及旋转角度,使得在测试过程中所述载物基座(3)发生相应的水平运动和旋转运动。
2.根据权利要求1所述的外延层厚度测试装置,其特征在于,所述载物基座(3)连接有第一驱动模块(6)和第二驱动模块(7),其中,所述第一驱动模块(6)用于根据所述控制模块(4)的控制信号驱动所述载物基座(3)进行水平二维运动;所述第二驱动模块(7)用于根据所述控制模块(4)的控制信号驱动所述载物基座(3)绕其中心轴线进行旋转运动。
3.根据权利要求1所述的外延层厚度测试装置,其特征在于,所述载物基座(3)的运动参数包括所述载物基座(3)的运动线路、运动速度、旋转速度以及旋转角度中的至少一种;所述红外光源(1)的光照参数包括所述红外光源(1)的单次光照时长以及相邻两次光照的时间间隔中的至少一种。
4.根据权利要求2所述的外延层厚度测试装置,其特征在于,所述第二驱动模块(7)为电动马达,所述电动马达连接至所述载物基座(3)的下端,以驱动所述载物基座(3)旋转。
5.根据权利要求4所述的外延层厚度测试装置,其特征在于,所述载物基座(3)的下表面中心处固定连接有竖向的转轴(9),所述转轴(9)的下端连接至第二驱动模块(7)的旋转轴。
6.一种外延层厚度测试方法,其特征在于,根据权利要求1至5中任一项所述的外延层厚度测试装置进行测试,所述方法包括:
设定待测外延片上测试点的位置坐标和测量次数;
根据所述位置坐标和所述测量次数确定装载有待测外延片的载物基座的运动参数以及红外光源的照射参数;
控制所述载物基座进行水平运动和旋转运动,以使所述红外光源照射到所述测试点处,并对所述测试点的外延层厚度进行测试。
7.根据权利要求6所述的外延层厚度测试方法,其特征在于,设定待测外延片上测试点的位置坐标和测量次数,包括:
在所述待测外延片上随机选取多个点作为测试点,并记录每个测试点的位置坐标;
设置所述测试点的测试次数,且使得每个测试点的测试次数相同。
8.根据权利要求7所述的外延层厚度测试方法,其特征在于,控制所述载物基座进行水平运动和旋转运动,以使所述红外光源照射到所述测试点处,并对所述测试点的外延层厚度进行测试,包括:
根据所述载物基座的运动参数控制所述载物基座运行至适当的位置,使得所述红外光源发出的光线能够通过所述测试点反射至所述检测器;
通过所述红外光源对所述测试点进行多次照射并将反射光反射至所述检测器;
通过所述检测器接收所述反射光并计算得到多个外延层厚度数据;
对所述多个外延层厚度数据取算数平均值,获得所述测试点的外延层厚度值。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司,未经西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911107836.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:变桨轴承装置
- 下一篇:图像处理方法、装置、计算机可读介质及电子设备