[发明专利]一种掩膜板组件及其制备方法、电致发光显示面板有效
申请号: | 201911108955.8 | 申请日: | 2019-11-13 |
公开(公告)号: | CN110783498B | 公开(公告)日: | 2022-06-03 |
发明(设计)人: | 张浩瀚 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L51/50;C23C14/04 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 姚楠 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 组件 及其 制备 方法 电致发光 显示 面板 | ||
1.一种掩膜板组件,其特征在于,所述掩膜板组件包括:掩膜板框架,以及与所述掩膜板框架固定的至少一个精细金属掩膜板;
所述掩膜板框架具有多个待蒸镀区,每一所述待蒸镀区与显示母板中每一显示面板的像素区一一对应;
每一所述待蒸镀区包括:第一像素密度区和第二像素密度区;
所述第一像素密度区具有一个完整的第一开口;
所述第二像素密度区具有多个第二开口,所述第二开口面积小于所述第一开口面积;
所述精细金属掩膜板包括均匀排布且开口精度一致的多个第三开口,所述精细金属掩膜板至少覆盖一个所述第一开口;
所述第二开口的数量小于与所述第二像素密度区面积相同的所述精细金属掩膜板中所述第三开口的数量;
在垂直于所述掩膜板框架所在平面方向上,每一所述第二开口的正投影覆盖一个所述第三开口的正投影;
所述第二开口的开口面积大于或等于所述第三开口的开口面积。
2.根据权利要求1所述的掩膜板组件,其特征在于,每一所述待蒸镀区的形状为圆角矩形,所述第一像素密度区在所述圆角矩形的四个圆角区域与所述第二像素密度区相邻。
3.根据权利要求2所述的掩膜板组件,其特征在于,每一所述第二像素密度区的形状为扇环,所述扇环的长曲边与所述圆角矩形的圆角重合;所述第一开口的形状为所述圆角矩形去除所述扇环的形状。
4.根据权利要求1所述的掩膜板组件,其特征在于,在所述第二像素密度区覆盖的区域,所述第二开口的数量小于或等于所述第三开口的数量的一半。
5.根据权利要求1所述的掩膜板组件,其特征在于,多个所述精细金属掩膜板沿第一方向排列固定于所述掩膜板框架,每一所述精细金属掩膜板沿第二方向延伸。
6.根据权利要求5所述的掩膜板组件,其特征在于,所述待蒸镀区沿所述第一方向和所述第二方向排列,每一所述精细金属掩膜板在所述第二方向上覆盖一列所述第一开口。
7.一种掩膜板组件的制备方法,其特征在于,所述方法包括:
提供金属掩膜板基板;
采用图形化工艺在所述金属掩膜板基板形成均匀排布且开口精度一致的多个第三开口的图案,获得精细金属掩膜板;
提供掩膜板框架基板,其中,所述掩膜板框架具有多个待蒸镀区,每一所述待蒸镀区与显示母板中每一显示面板的像素区一一对应,每一所述待蒸镀区包括:第一像素密度区和第二像素密度区;
在所述掩膜板框架基板所述第一像素密度区形成一个完整的第一开口的图案以及在所述第二像素密度区多个第二开口的图案,获得掩膜板框架;所述第二开口面积小于所述第一开口面积;
将所述精细金属掩膜板与所述掩膜板框架进行对位,以使所述精细金属掩膜板至少覆盖所述第一开口;在垂直于所述掩膜板框架所在平面方向上,每一所述第二开口的正投影覆盖一个所述第三开口的正投影;所述第二开口的开口面积大于或等于所述第三开口的开口面积;所述第二开口的数量小于与所述第二像素密度区面积相同的所述精细金属掩膜板中所述第三开口的数量;
将所述精细金属掩膜板固定于所述掩膜板框架。
8.一种电致发光显示面板,其特征在于,所述电致发光显示面板包括多个电致发光子像素,所述电致发光子像素包括发光层,所述发光层利用权利要求1~6任一项所述的掩膜板组件蒸镀形成。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
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H01L51-54 .. 材料选择