[发明专利]一种二维中空纳米片结构的硫化钴/g-C3有效

专利信息
申请号: 201911110962.1 申请日: 2019-11-01
公开(公告)号: CN110697794B 公开(公告)日: 2022-04-01
发明(设计)人: 陶凯;李伟伟;韩磊 申请(专利权)人: 宁波大学
主分类号: H01G11/24 分类号: H01G11/24;C01G51/00;C01B21/082;H01G11/30
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 315211 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 二维 中空 纳米 结构 硫化 base sub
【权利要求书】:

1.一种二维中空纳米片结构的硫化钴/g-C3N4复合电极材料的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:

取7g三聚氰胺置于管式炉中在氮气氛围下以10℃·min-1的升温速率升至600℃煅烧2h,得到g-C3N4;取10mg g-C3N4于40ml水中超声处理1h,加入1.31g C4H6N2继续超声处理1h,取0.58g Co(NO3)2·6H2O溶解于40ml水中;将上述两种溶液混合,在450rpm的搅拌速度下,搅拌5min,在25℃下静置4h,然后在7000rpm转速下离心4min,分别用去离子水和无水乙醇离心洗涤三次,得到的产物于60℃的干燥箱中干燥24h,得到复合电极材料的前驱体;

将上述步骤中得到的前驱体加入到含有3g/L硫代乙酰胺的乙醇溶液中,反应溶液加入聚四氟乙烯反应釜内衬中,于120℃烘箱中反应4h,在7000rpm转速下离心4min,分别用水和乙醇洗涤三次,然后置于65℃的真空干燥箱中干燥12h,得到二维中空纳米片结构的硫化钴/g-C3N4复合电极材料。

2.根据权利要求1所述制备方法制备的二维中空纳米片结构的硫化钴/g-C3N4复合电极材料。

3.根据权利要求2所述的二维中空纳米片结构的硫化钴/g-C3N4复合电极材料的用途,其特征在于,作为复合电极材料应用于超级电容器。

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