[发明专利]沉积掩膜有效

专利信息
申请号: 201911112620.3 申请日: 2015-08-25
公开(公告)号: CN110923622B 公开(公告)日: 2021-12-03
发明(设计)人: 卢健镐;曹守铉;黄周炫;金南昊;李相范;林正龙;韩太勋;文炳律;朴宰奭;孙晓源 申请(专利权)人: LG伊诺特有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;H01L51/00;H01L51/56
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 黄霖;潘炜
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 沉积
【说明书】:

本发明的实施方式涉及一种可适用于有机发光器件等的沉积工艺的掩膜结构,并且允许提供一种沉积掩膜,该沉积掩膜包括:第一表面和第二表面,该第一表面和第二表面在金属板的厚度方向正交并且彼此面对;以及多个单位孔,多个单位孔具有穿过第一表面和第二表面并且彼此连通的第一表面孔和第二表面孔,其中,基于在任选的单位孔之间的尺寸变化将在相邻单位孔之间的第一表面孔或第二表面孔的尺寸变化控制在2%至10%之内,或者基于第一表面的表面将第一表面孔的中心和第二表面孔的中心布置在中心彼此不重合的位置。

本申请是申请日为2015年08月25日、申请号为201580080724.4(PCT/KR2015/008894)、名称为“金属基板和使用该金属基板的沉积掩膜”的中国发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明的实施方式涉及可适用于有机发光器件的沉积工艺的金属板以及使用该金属板的掩膜结构。

背景技术

在包括有机EL发光器件的有机电致发光(EL)彩色显示器的制造过程中,通过真空沉积工艺来形成包括有机材料的有机层。在这种情况下,已经使用了具有与有机层的图案匹配的用于渗透材料的多个孔的沉积掩膜。通常,可以通过在金属薄膜上施用光阻膜来在曝光图案之后通过执行蚀刻工艺的光刻方案或者通过在用于玻璃片形成所期望的图案的电镀之后执行分层工艺的电成形方案来形成构成沉积掩膜的孔。

常规的沉积掩膜实现为通常的金属掩膜的形式。然而,用于通常的金属掩膜的方案仅集中于精确地实现用于沉积的开口区域。然而,通过上述方案,没有提高沉积效率并且没有显著产生减少不经受沉积的死区域的效果。

发明内容

[技术问题]

本发明的实施方式是为了解决上述问题而做出的并且可以提供一种沉积掩膜,该沉积掩膜具有在调节彼此相邻的单位沉积微孔之间的均匀性并且执行沉积工艺之后能够防止有机发光器件(OLED)面板的污点和摩尔纹(Moire)的结构。

另外,本发明的另一实施方式可以提供一种沉积掩膜,该沉积掩膜能够通过将构成用于沉积的单位孔的第一表面孔和第二表面孔布置成使得第一表面孔的中心与第二表面孔的中心不匹配来提高沉积效率,并且能够使在沉积中不经受沉积工艺的死区域最小化,从而即使在大面积的沉积目标中也能够提高沉积的均匀性。

特别地,可以提供一种金属基板,该金属基板使在对将要被制造成沉积掩膜的金属板进行蚀刻时所发生的扭曲最小化。此外,可以基于金属基板实现包括用于沉积的多个单位孔的沉积掩膜。另外,通过控制沉积掩膜的单位孔的粗糙度可以增加沉积效率。

[技术方案]

为了解决这些问题,根据本发明的实施方式可以提供一种包括具有厚度的金属板的沉积掩膜。该金属板可以包括第一表面和第二表面以及多个单位孔,其中,第一表面和第二表面垂直于厚度的方向并且彼此相反,多个单位孔具有第一表面孔和第二表面孔,第一表面孔和第二表面孔形成为分别穿过第一表面和第二表面以彼此连接。在彼此相邻的单位孔之间的第一表面孔或第二表面孔中的尺寸差值可以在任意单位孔之间的尺寸差值的10%以内。

另外,根据本发明的另一实施方式可以提供一种包括具有厚度(t)的金属板的沉积掩膜。金属板可以包括第一表面和第二表面以及多个单位孔,其中,第一表面和第二表面垂直于厚度的方向并且彼此相反,多个单位孔具有形成为分别穿过第一表面和第二表面以彼此连接的第一表面孔和第二表面孔。金属板可以包括至少一个单位孔,其中,第一表面孔的中心与第二表面孔的中心关于第一表面的表面不匹配。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于LG伊诺特有限公司,未经LG伊诺特有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911112620.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top