[发明专利]一种还原气氛下具有高电阻率、巨介电常数和低损耗的二氧化钛基陶瓷的制备方法有效

专利信息
申请号: 201911113373.9 申请日: 2019-11-14
公开(公告)号: CN110803923B 公开(公告)日: 2022-04-05
发明(设计)人: 刘鹏;宋月婵;吴雯雯;雷明亮 申请(专利权)人: 陕西师范大学
主分类号: C04B35/46 分类号: C04B35/46;C04B35/622;C04B35/63;C04B41/88
代理公司: 西安永生专利代理有限责任公司 61201 代理人: 高雪霞
地址: 710062 *** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 还原 气氛 具有 电阻率 介电常数 损耗 氧化 陶瓷 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种还原气氛下具有高电阻率、巨介电常数和低损耗的二氧化钛基陶瓷的制备方法,其特征在于它由下述步骤组成:

(1)制备二氧化钛基陶瓷粉

按照(Al0.5Nb0.5)0.005Ti0.995O 2的化学计量比称取原料Al2O3、Nb2O5和TiO2,将原料与氧化锆球、无水乙醇进行球磨混合后烘干,得到二氧化钛基陶瓷粉;

(2)制备二氧化钛基陶瓷

将二氧化钛基陶瓷粉在1050~1150℃预烧2~4小时,将预烧粉体研磨成粉后与氧化锆球、无水乙醇进行第二次球磨混合,烘干后将二次球磨粉与分散剂、去离子水按体积比1:0.005~0.02:1.5~4进行第三次球磨混合,并在第三次球磨期间用盐酸将pH值调至6.0~7.0;将第三次球磨获得的浆料置于3~12 T的磁场静置24~72 h,待浆料变干,获得圆柱形塑坯;将圆柱形塑坯以1~5 ℃/min升温至550~700 ℃下保温2~5小时后,以200~700mPa的压力在油中冷等静压5~30 min,获得生胚,将生胚在N2气氛下,以1~5 ℃/min 升温至1300~1500 ℃保温2~10小时,然后以1~5 ℃/min 降温至500~700 ℃后随炉降温,所得陶瓷在抛光机上抛平表面,涂上电极在70~120 ℃干燥后,在600~800 ℃烧银电极,得到二氧化钛基陶瓷。

2.根据权利要求1所述的还原气氛下具有高电阻率、巨介电常数和低损耗的二氧化钛基陶瓷制备方法,其特征在于:步骤(1)中,按照(Al0.5Nb0.5)0.005Ti0.995O 2的化学计量比称取原料Al2O3、Nb2O5和TiO2,将原料与氧化锆球、无水乙醇按质量比为1:10~20:2~3,球磨混合12~36 h,然后在65~95 ℃下烘烤4~24 h,得到二氧化钛基陶瓷粉。

3.根据权利要求1或2所述的还原气氛下具有高电阻率、巨介电常数和低损耗的二氧化钛基陶瓷制备方法,其特征在于:步骤(1)中,所述的TiO2为金红石相TiO2

4.根据权利要求1所述的还原气氛下具有高电阻率、巨介电常数和低损耗的二氧化钛基陶瓷制备方法,其特征在于:步骤(2)中,将二氧化钛基陶瓷粉在1100℃预烧2~4小时。

5.根据权利要求1所述的还原气氛下具有高电阻率、巨介电常数和低损耗的二氧化钛基陶瓷制备方法,其特征在于:步骤(2)中,将二次球磨粉与分散剂、去离子水按体积比1:0.01~0.015:2~3进行第三次球磨混合36~72 h,并在第三次球磨期间用盐酸将pH值调至6.5。

6.根据权利要求1或5所述的还原气氛下具有高电阻率、巨介电常数和低损耗的二氧化钛基陶瓷制备方法,其特征在于:步骤(2)中,所述的分散剂为型号F420或F400的奥纳油性湿润分散剂中任意一种。

7.根据权利要求1所述的还原气氛下具有高电阻率、巨介电常数和低损耗的二氧化钛基陶瓷制备方法,其特征在于:步骤(2)中,将第三次球磨获得的浆料置于6~12 T的磁场静置36~48 h,待浆料变干,获得圆柱形塑坯。

8.根据权利要求1所述的还原气氛下具有高电阻率、巨介电常数和低损耗的二氧化钛基陶瓷制备方法,其特征在于:步骤(2)中,将圆柱形塑坯以2~3 ℃/min升温至650 ℃下保温2小时后,以500~600 mPa的压力在油中冷等静压15~20 min,获得生胚,将生胚在N2气氛下,以2~3 ℃/min升温至1400 ℃保温10小时,然后以2~3 ℃/min降温至500 ℃后随炉降温,所得陶瓷在抛光机上抛平表面,涂上电极在120 ℃干燥后,在650 ℃烧银电极,得到二氧化钛基陶瓷。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于陕西师范大学,未经陕西师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911113373.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top