[发明专利]强化构树修复锰污染土壤的皮氏罗尔斯顿菌HM8、复合菌剂及其制备方法与应用有效
申请号: | 201911116701.0 | 申请日: | 2019-11-15 |
公开(公告)号: | CN110819562B | 公开(公告)日: | 2022-10-28 |
发明(设计)人: | 黄慧敏;赵运林;徐正刚;赵洧平;温伟杰;樊丽;靳琦 | 申请(专利权)人: | 长沙环境保护职业技术学院;中南林业科技大学;湖南农业大学 |
主分类号: | C12N1/20 | 分类号: | C12N1/20;B09C1/10;C12R1/01;C12R1/085 |
代理公司: | 哈尔滨市伟晨专利代理事务所(普通合伙) 23209 | 代理人: | 刘坤 |
地址: | 410018 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 强化 修复 污染 土壤 皮氏罗尔斯顿菌 hm8 复合 及其 制备 方法 应用 | ||
本发明涉及强化构树修复锰污染土壤的皮氏罗尔斯顿菌HM8、复合菌剂及其制备方法与应用,属于土壤治理技术领域。为解决现有植物原位修复治理锰污染土壤效果差的问题,本发明提供了一种强化构树修复锰污染土壤的皮氏罗尔斯顿菌HM8及复合菌剂,复合菌剂由皮氏罗尔斯顿菌HM8和蜡样芽胞杆菌HM5复配制得。本发明提供的皮氏罗尔斯顿菌HM8具有锰金属抗性和促生能力,能够强化构树的修复作用;与蜡样芽胞杆菌HM5复配后,两种菌相互协同、对锰污染环境的抵抗力和适应性更强。将本发明复合菌剂施加到构树根系土壤中,能够更加高效的在促进构树生长的同时富集根际土壤中的锰,达到快速治理锰污染土壤的效果。
技术领域
本发明属于土壤治理技术领域,尤其涉及强化构树修复锰污染土壤的皮氏罗尔斯顿菌 HM8、复合菌剂及其制备方法与应用。
背景技术
锰污染土壤会影响植物生长,过量的锰会降低植物光合作用、抑制蛋白的合成、影响植物根系的伸长而使植物的生长量减少,甚至出现植株死亡的现象。高浓度的锰会影响植物在土壤中养分的吸收,引起氧化损伤,破坏细胞结构和影响光合速率,使植物的矿物质吸收和细胞代谢受阻。
传统的锰污染土壤处理方法是化学和物理方法,这些方法对锰污染土壤的修复有一定的效果,然而它们存在成本高、适用面积小、易产生二次污染和影响土壤结构等问题。植物修复技术因为其成本低、环境友好且不引入二次污染而被广泛用于重金属污染土壤的治理之中。尽管与物理化学修复方法相比,植物修复于成本等方面具有优势,但是在实际应用中有诸多缺陷。例如,部分重金属超积累植物具有生长缓慢或生物量低等缺点,以至于修复周期长。此外,土壤中重金属的有效浓度也是限制植物恢复的重要因素。
构树为桑科(Moraceae)桑亚科(Moroideae)构树族(Broussonetieae)植物,主要分布与我国南北各地及东亚、东南亚、南亚北部等地。落叶乔木或灌木状,小枝密被灰色粗毛。叶宽卵形或长椭圆状卵形,先端尖,基部近心形、平截或圆,具粗锯齿,不裂至 5裂多型,上面粗糙,基出3脉。花雌雄异株,雄花序粗,花被4裂,雌花序头状。聚花果球形,熟时橙红色,肉质。花期4-5月,果期6-7月。构树具有易繁殖、生长快、分布广的特点。构树能抵抗干旱或盐碱环境的干扰和空气污染,在许多气候类型中生长良好,易成为污染地区的先锋物种,并被认为是重新造林的候选植物。
在寻找具有快速生长、生物量高和耐受高浓度重金属的候选修复植物的基础上,利用其它生物技术加强植物修复效果,同时开发有效的原位生物修复技术将更有利于污染环境的治理。近年来,植物-微生物联合修复重金属污染土壤已取得一定成果,但仍缺少能够在锰矿区或锰污染地区对乔木植物进行原位修复来治理锰污染土壤的有效方法。
发明内容
为解决现有植物原位修复治理锰污染土壤效果差的问题,本发明提供了强化构树修复锰污染土壤的皮氏罗尔斯顿菌HM8、复合菌剂及其制备方法与应用。
本发明的技术方案:
一株强化构树修复锰污染土壤的皮氏罗尔斯顿菌HM8,其分类命名为皮氏罗尔斯顿菌(Ralstonia pickettii),已于2019年10月9日保藏于中国典型培养物保藏中心,地址为湖北省武汉市武昌区八一路299号武汉大学校内,保藏登记号为CCTCC NO:M 2019787。
进一步的,所述皮氏罗尔斯顿菌HM8的16S rDNA的核苷酸序列如SEQ ID No:1 所示。
一种强化构树修复锰污染土壤的复合菌剂,包括皮氏罗尔斯顿菌HM8(Ralstoniapickettii)和蜡样芽胞杆菌HM5(Bacillus cereus),所述皮氏罗尔斯顿菌HM8已于2019 年10月9日保藏于中国典型培养物保藏中心,地址为湖北省武汉市武昌区八一路299号武汉大学校内,保藏登记号为CCTCC NO:M 2019787;所述蜡样芽胞杆菌HM5已于2019 年10月9日保藏于中国典型培养物保藏中心,地址为湖北省武汉市武昌区八一路299号武汉大学校内,保藏登记号为CCTCC NO:M 2019785。
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