[发明专利]UiO-66(NH2有效

专利信息
申请号: 201911121517.5 申请日: 2019-11-15
公开(公告)号: CN110964330B 公开(公告)日: 2022-07-05
发明(设计)人: 程发良;宾倩韵;张敏;谢永泽;谢世磊;柳鹏;王寿山;谢东 申请(专利权)人: 东莞理工学院
主分类号: C08L87/00 分类号: C08L87/00;C08K3/30
代理公司: 东莞恒成知识产权代理事务所(普通合伙) 44412 代理人: 邓燕
地址: 523000 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: uio 66 nh base sub
【说明书】:

发明涉及复合材料领域,具体涉及一种UiO‑66(NH2)‑硫化银复合材料的制备工艺。UiO‑66(NH2)‑硫化银复合材料的制备工艺,其特征在于:包括以下步骤:S1:合成UiO‑66(NH2);S2:在FTO玻璃上修饰一层UiO‑66(NH2);S3:在UiO‑66(NH2)化合物表面生长Ag2S,得到UiO‑66(NH2)‑硫化银复合材料。本发明制备工艺简单、制备成本低、化学稳定性好、检出限较低和线性范围较宽。

技术领域

本发明涉及复合材料领域,特别是涉及UiO-66(NH2)-硫化银复合材料的制备工艺。

背景技术

金属有机骨架(MOFs)代表由有机配体连接的过渡金属离子网络形成的新型微孔材料。由于MOF具有高表面积,高孔隙率和可调性的特性,因此被认为是气体储存,吸收,微电子和催化的潜在候选。

在MOFs族中,Zr基的UIO-66-NH2作为一种常见的Zr基MOF由于其热稳定性好,表面积大和光催化性能良好而被广泛研究,被用于光催化剂、有机污染物去除剂、肿瘤标记物光电检测等各种场合。

但现有技术的UIO-66-NH2,在应用于光电检测时,其化学稳定性、检出限和线性范围均较差,因此,需要对其进行进一步修饰。

发明内容

为解决上述问题,本发明提供一种制备工艺简单、制备成本低、化学稳定性好、检出限较低和线性范围较宽的UiO-66(NH2)-硫化银复合材料的制备工艺。

本发明所采用的技术方案是:UiO-66(NH2)-硫化银复合材料的制备工艺,包括以下步骤:S1:合成UiO-66(NH2);S2:在FTO玻璃上修饰一层UiO-66(NH2);S3:在UiO-66(NH2)化合物表面生长Ag2S,得到UiO-66(NH2)-硫化银复合材料。

对上述技术方案的进一步改进为,S1中,UiO-66(NH2)的合成方法为:a、使用溶剂热反应法,将四氯化锆和2-氨基对苯二甲酸超声溶解在DMF溶液中,转移到反应釜中,在10℃~200℃下反应12h~36h;b、将步骤a中反应釜反应后得到的淡黄色产物离心,用洗涤溶剂洗涤1~5次,10℃~200℃真空干燥,静置,得到UiO-66(NH2)固体粉末。

对上述技术方案的进一步改进为,S2中,UiO-66(NH2)修饰FTO玻璃的方法为:a、将FTO玻璃裁剪成片状,超声清洗1min~5min,b、将步骤a中经清洗后的片状FTO玻璃用氮气吹干,取0.5mg mL-1~3.5mg mL-1的UiO-66(NH2)均匀滴加在FTO玻璃表面,室温下自然晾干。

对上述技术方案的进一步改进为,S3中,在UiO-66(NH2)化合物表面生长Ag2S的方法为:a、取含AgNO3的乙醇和水混合,制得阳离子前驱液;b、取含硫脲的乙醇和水混合,制得阴离子前驱液;c、将S2中修饰了UiO-66(NH2)的FTO玻璃依次浸入到阳离子前驱液和阴离子前驱液中,循环3次~9次,每次浸润时间为3min~7min,使Ag2S纳米粒子生长在UiO-66(NH2)表面;d、清洗吹干,制得UiO-66(NH2)-硫化银复合材料。

对上述技术方案的进一步改进为,S1中,反应釜中反应温度为120℃,反应时间为24h,洗涤溶剂为甲醇,洗涤次数为3次,真空干燥温度为80℃。

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