[发明专利]X射线高压发生器的双能曝光控制方法、装置

权利要求书

1.一种X射线高压发生器的双能曝光控制方法，其特征在于，包括：

获取目标双能曝光模式；其中，所述目标双能曝光模式包括双能单次曝光以及双能序列曝光；

基于所述目标双能曝光模式确定当前曝光模式以及下一曝光模式；其中，所述当前曝光模式为高能曝光或低能曝光；

提取当前曝光模式对应的曝光参数，并基于所述曝光参数对目标体进行曝光；

获取实时曝光反馈参数，并判断所述实时曝光反馈参数是否达到所述曝光参数中的曝光截止参数；其中，所述实时曝光反馈参数包括曝光时间以及曝光剂量中的至少一种；

当所述实时曝光反馈参数达到预设曝光截止参数时，切换至所述下一曝光模式，以基于所述下一曝光模式对应的曝光参数对所述目标体进行曝光。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述曝光截止参数为曝光时间；其中，所述获取实时曝光反馈参数，并判断所述实时曝光反馈参数是否达到所述曝光截止参数包括：

在对所述目标体进行曝光时，启动曝光计时，以得到实时曝光时间；

判断所述实时曝光时间是否达到所述曝光时间；

当所述实时曝光时间达到所述曝光时间时，切换至所述下一曝光模式，以基于所述下一曝光模式对应的曝光参数对所述目标体进行曝光。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述当前曝光模式对应的曝光参数包括管电压、管电流以及所述曝光时间。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述曝光截止参数为曝光剂量；其中，所述获取实时曝光反馈参数，并判断所述实时曝光反馈参数是否达到所述曝光截止参数包括：

在对所述目标体进行曝光时，获取检测到的所述目标体对应的实时曝光剂量；

判断所述实时曝光剂量是否达到所述曝光剂量；

当所述实时曝光剂量达到所述曝光剂量时，切换至所述下一曝光模式，以基于所述下一曝光模式对应的曝光参数对所述目标体进行曝光。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述当前曝光模式对应的曝光参数包括管电压。

6.根据权利要求1－5中任一项所述的方法，其特征在于，所述基于所述曝光参数对目标体进行曝光，包括：

判断一级手闸是否按下，若一级手闸没有按下，返回执行取目标双能曝光模式的步骤；

当所述一级手闸按下时，判断二级手闸是否按下；

当所述二级手闸在预设时间内未按下时，返回执行所述获取目标双能曝光模式的步骤；

当所述二级手闸按下时，基于所述曝光参数对目标体进行曝光。

7.一种X射线高压发生器的双能曝光控制装置，其特征在于，包括：

第一获取模块，用于获取目标双能曝光模式；其中，所述目标双能曝光模式包括双能单次曝光以及双能序列曝光；

曝光模式确定模块，用于基于所述目标双能曝光模式确定当前曝光模式以及下一曝光模式；其中，所述当前曝光模式为高能曝光或低能曝光；

提取模块，用于提取当前曝光模式对应的曝光参数，并基于所述曝光参数对目标体进行曝光；

第二获取模块，用于获取实时曝光反馈参数，并判断所述实时曝光反馈参数是否达到所述曝光参数中的曝光截止参数；其中，所述实时曝光反馈参数包括曝光时间以及曝光剂量中的至少一种；

切换模块，用于当所述实时曝光反馈参数达到预设曝光截止参数时，切换至所述下一曝光模式，以基于所述下一曝光模式对应的曝光参数对所述目标体进行曝光。

8.一种电子设备，其特征在于，包括：

存储器和处理器，所述存储器和所述处理器之间互相通信连接，所述存储器中存储有计算机指令，所述处理器通过执行所述计算机指令，从而执行权利要求1－6中任一项所述的双能曝光控制方法。

9.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质存储有计算机指令，所述计算机指令用于使所述计算机执行权利要求1－6中任一项所述的双能曝光控制方法。

10.一种X射线高压发生器的双能曝光系统，其特征在于，包括：

上位机，与电子设备连接；其中，所述上位机用于设置所述目标双能曝光模式以及曝光模式对应的曝光参数，并将所述目标双能曝光模式以及曝光模式对应的曝光参数发送给所述电子设备；权利要求8所述的电子设备；其中，所述电子设备基于所述上位机发送的所述目标双能曝光模式以及曝光模式对应的曝光参数进行双能曝光。