[发明专利]一种超材料薄膜的无基底悬空式多层高精度纳米加工工艺在审
| 申请号： | 201911127866.8 | 申请日： | 2019-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN110835089A | 公开（公告）日： | 2020-02-25 |
| 发明（设计）人： | 张明威 | 申请（专利权）人： | 苏州法曼斯缇新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 | 代理人： | 吕明哲 |
| 地址： | 215000 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 材料 薄膜 基底 悬空 多层 高精度 纳米 加工 工艺 | ||
1.一种超材料薄膜的无基底悬空式多层高精度纳米加工工艺，其特征在于，所述加工工艺包括如下步骤：
S1、通过计算机模拟设计出适合工程需要的超材料模型；
S2、以模拟模型为参照，采用光刻胶甩出厚度为3~7um的底层保护膜；
S3、在底层保护膜上做一层厚度为8~12nm金结构A；
S4、采用光刻胶在金结构A上面甩出厚度为18~22um的薄膜A；
S5、在薄膜A上做一层厚度为7~13nm金结构B；
S6、采用光刻胶在金结构B上面甩出厚度为17~23um的薄膜B；
S7、在薄膜B上做一层厚度为7~13nm金结构C；
S8、通过光刻胶在金结构C上面甩出厚度为3~6um的顶层保护膜，从而得到超材料薄膜。
2.根据权利要求1所述的一种超材料薄膜的无基底悬空式多层高精度纳米加工工艺，其特征在于：所述S2中，所述底层保护膜的厚度为5um。
3.根据权利要求1所述的一种超材料薄膜的无基底悬空式多层高精度纳米加工工艺，其特征在于：所述S3中，所述金结构A的厚度为10um。
4.根据权利要求1所述的一种超材料薄膜的无基底悬空式多层高精度纳米加工工艺，其特征在于：所述S4中，所述薄膜A的厚度为20um。
5.根据权利要求1所述的一种超材料薄膜的无基底悬空式多层高精度纳米加工工艺，其特征在于：所述S5中，所述金结构A的厚度为10um。
6.根据权利要求1所述的一种超材料薄膜的无基底悬空式多层高精度纳米加工工艺，其特征在于：所述S6中，所述薄膜B的厚度为20um。
7.根据权利要求1所述的一种超材料薄膜的无基底悬空式多层高精度纳米加工工艺，其特征在于：所述S7中，所述金结构C的厚度为10um。
8.根据权利要求1所述的一种超材料薄膜的无基底悬空式多层高精度纳米加工工艺，其特征在于：所述S8中，所述顶层保护膜的厚度为5um。
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