[发明专利]一种用于硅化合物的低雾值无损伤抛光液及其制备方法

权利要求书

1.一种用于硅化合物的低雾值无损伤抛光液，其特征在于，所述抛光液由以下重量份数的原料组成：可溶性有机硅聚合物3-8重量份、用于稳定可溶性有机硅聚合物的有机小分子5-15重量份、多氮有机分子增效剂0.5-5重量份、pH值调节剂1-5重量份和去离子水50-80重量份。

2.如权利要求1所述的用于硅化合物的低雾值无损伤抛光液，其特征在于，所述可溶性有机硅聚合物为四醇基有机硅。

3.如权利要求2所述的用于硅化合物的低雾值无损伤抛光液，其特征在于，所述四醇基有机硅为四甲醇基硅、四乙醇基硅、四丁醇基硅中的至少一种。

4.如权利要求1所述的用于硅化合物的低雾值无损伤抛光液，其特征在于，所述有机小分子为有机胺小分子化合物。

5.如权利要求4所述的用于硅化合物的低雾值无损伤抛光液，其特征在于，所述有机胺小分子化合物为单脂肪胺、多脂肪胺、芳胺、羟胺、四烷基氢氧化铵中的至少一种。

6.如权利要求1所述的用于硅化合物的低雾值无损伤抛光液，其特征在于，所述多氮有机分子增效剂为三聚氰胺、三聚氰酸、1,3,5-三嗪、哌嗪、咪唑、吡唑、1,2,4-三氮唑、胍、氨基胍、乙酸胍、磺胺胍、硝酸胍、碳酸胍、二甲双胍、六甲基瓜胺、聚乙烯亚胺中的至少一种。

7.如权利要求1所述的用于硅化合物的低雾值无损伤抛光液，其特征在于，所述pH值调节剂为氨和/或季铵碱。

8.如权利要求1所述的用于硅化合物的低雾值无损伤抛光液的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：

S1：称取5-15重量份有机小分子、3-8重量份可溶性有机硅聚合物和0.5-5重量份多氮有机分子增效剂，加入到50-80重量份去离子水中，搅拌混合均匀；

S2：再加入1-5重量份pH值调节剂调整pH值到10-12.5，充分搅拌均匀后，得到所述用于硅化合物的低雾值无损伤抛光液。

9.应用如权利要求1-8中任一项所述的用于硅化合物的低雾值无损伤抛光液，用于单晶硅、含硅化合物表面的高效、超精密抛光，尤其是表面粗糙度小于2nm 的超大型集成电路单晶硅片的抛光。