[发明专利]镜面阵列基板及其制备方法、镜面显示面板和显示装置在审

专利信息
申请号: 201911132432.7 申请日: 2019-11-19
公开(公告)号: CN110828695A 公开(公告)日: 2020-02-21
发明(设计)人: 朱健超;田雪雁;刘烺;王博 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 王辉;阚梓瑄
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 阵列 及其 制备 方法 显示 面板 显示装置
【权利要求书】:

1.一种镜面阵列基板,其特征在于,包括:

衬底基板;

显示层,设于所述衬底基板的一侧;所述显示层设置有阵列分布的多个显示单元;

反射层,设于所述显示层远离所述衬底基板的一侧,且所述反射层设置有与各个所述显示单元一一对应的多个透光孔;任一所述显示单元的发光区域在所述衬底基板上的正投影,与对应的所述透光孔在所述衬底基板上的正投影至少部分重合。

2.根据权利要求1所述的镜面阵列基板,其特征在于,所述镜面阵列基板还包括:

无机保护层,设于所述显示层与所述反射层之间,且所述反射层设于所述无机保护层远离所述衬底基板的表面。

3.根据权利要求2所述的镜面阵列基板,其特征在于,所述无机保护层的材料为氮化硅。

4.根据权利要求1所述的镜面阵列基板,其特征在于,所述镜面阵列基板还包括:

有机保护层,设于所述显示层与所述反射层之间,且所述反射层设于所述有机保护层远离所述衬底基板的表面。

5.根据权利要求1所述的镜面阵列基板,其特征在于,任一所述透光孔在所述衬底基板上的正投影的面积,为对应的所述显示单元的发光区域在所述衬底基板上的正投影的面积的50%~100%;其中,任一所述透光孔在所述衬底基板上的正投影,位于对应的所述显示单元的发光区域在所述衬底基板上的正投影内。

6.根据权利要求1所述的镜面阵列基板,其特征在于,任一所述透光孔在所述衬底基板上的正投影的面积,为对应的所述显示单元的发光区域在所述衬底基板上的正投影的面积的100%~150%;其中,任一所述显示单元的发光区域在所述衬底基板上的正投影,位于对应的所述透光孔在所述衬底基板上的正投影内。

7.根据权利要求1所述的镜面阵列基板,其特征在于,所述显示单元为有机发光二极管。

8.一种镜面显示面板,其特征在于,包括权利要求1~7任一项所述的镜面阵列基板。

9.一种镜面显示装置,其特征在于,包括权利要求8所述的镜面显示面板。

10.一种镜面阵列基板的制备方法,其特征在于,包括:

提供衬底基板;

在所述衬底基板的一侧形成显示层,所述显示层设置有阵列分布的多个显示单元;

在所述显示层远离所述衬底基板的一侧形成反射层;所述反射层设置有与各个所述显示单元一一对应的多个透光孔;任一所述显示单元的发光区域在所述衬底基板上的正投影,与对应的所述透光孔在所述衬底基板上的正投影至少部分重合。

11.根据权利要求10所述的镜面阵列基板的制备方法,其特征在于,所述镜面阵列基板的制备方法还包括:

在形成所述反射层之前,在所述显示层远离所述衬底基板的一侧形成无机保护层;

在所述显示层远离所述衬底基板的一侧形成反射层包括:

在所述无机保护层远离所述衬底基板的表面形成反射材料层;

通过干法刻蚀,对所述反射材料层进行图案化,形成所述反射层。

12.根据权利要求10所述的镜面阵列基板的制备方法,其特征在于,所述镜面阵列基板的制备方法还包括:

在形成所述反射层之前,在所述显示层远离所述衬底基板的一侧形成有机保护层;

在所述显示层远离所述衬底基板的一侧形成反射层包括:

在所述有机保护层远离所述衬底基板的表面形成反射材料层;

通过湿法刻蚀,对所述反射材料层进行图案化,形成所述反射层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911132432.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code