[发明专利]镜面阵列基板及其制备方法、镜面显示面板和显示装置

权利要求书

1.一种镜面阵列基板，其特征在于，包括：

衬底基板；

显示层，设于所述衬底基板的一侧；所述显示层设置有阵列分布的多个显示单元；

反射层，设于所述显示层远离所述衬底基板的一侧，且所述反射层设置有与各个所述显示单元一一对应的多个透光孔；任一所述显示单元的发光区域在所述衬底基板上的正投影，与对应的所述透光孔在所述衬底基板上的正投影至少部分重合。

2.根据权利要求1所述的镜面阵列基板，其特征在于，所述镜面阵列基板还包括：

无机保护层，设于所述显示层与所述反射层之间，且所述反射层设于所述无机保护层远离所述衬底基板的表面。

3.根据权利要求2所述的镜面阵列基板，其特征在于，所述无机保护层的材料为氮化硅。

4.根据权利要求1所述的镜面阵列基板，其特征在于，所述镜面阵列基板还包括：

有机保护层，设于所述显示层与所述反射层之间，且所述反射层设于所述有机保护层远离所述衬底基板的表面。

5.根据权利要求1所述的镜面阵列基板，其特征在于，任一所述透光孔在所述衬底基板上的正投影的面积，为对应的所述显示单元的发光区域在所述衬底基板上的正投影的面积的50％～100％；其中，任一所述透光孔在所述衬底基板上的正投影，位于对应的所述显示单元的发光区域在所述衬底基板上的正投影内。

6.根据权利要求1所述的镜面阵列基板，其特征在于，任一所述透光孔在所述衬底基板上的正投影的面积，为对应的所述显示单元的发光区域在所述衬底基板上的正投影的面积的100％～150％；其中，任一所述显示单元的发光区域在所述衬底基板上的正投影，位于对应的所述透光孔在所述衬底基板上的正投影内。

7.根据权利要求1所述的镜面阵列基板，其特征在于，所述显示单元为有机发光二极管。

8.一种镜面显示面板，其特征在于，包括权利要求1～7任一项所述的镜面阵列基板。

9.一种镜面显示装置，其特征在于，包括权利要求8所述的镜面显示面板。

10.一种镜面阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：

提供衬底基板；

在所述衬底基板的一侧形成显示层，所述显示层设置有阵列分布的多个显示单元；

在所述显示层远离所述衬底基板的一侧形成反射层；所述反射层设置有与各个所述显示单元一一对应的多个透光孔；任一所述显示单元的发光区域在所述衬底基板上的正投影，与对应的所述透光孔在所述衬底基板上的正投影至少部分重合。

11.根据权利要求10所述的镜面阵列基板的制备方法，其特征在于，所述镜面阵列基板的制备方法还包括：

在形成所述反射层之前，在所述显示层远离所述衬底基板的一侧形成无机保护层；

在所述显示层远离所述衬底基板的一侧形成反射层包括：

在所述无机保护层远离所述衬底基板的表面形成反射材料层；

通过干法刻蚀，对所述反射材料层进行图案化，形成所述反射层。

12.根据权利要求10所述的镜面阵列基板的制备方法，其特征在于，所述镜面阵列基板的制备方法还包括：

在形成所述反射层之前，在所述显示层远离所述衬底基板的一侧形成有机保护层；

在所述显示层远离所述衬底基板的一侧形成反射层包括：

在所述有机保护层远离所述衬底基板的表面形成反射材料层；

通过湿法刻蚀，对所述反射材料层进行图案化，形成所述反射层。