[发明专利]一种用于粉末球化处理或精细涂覆的等离子体发生器

权利要求书

1.一种用于粉末球化处理或精细涂覆的等离子体发生器，其特征在于：包括阴极组件(1)和阳极组件(3)，以及位于阴极组件(1)和阳极组件(3)之间的绝缘套筒(2)；

所述的阴极组件(1)包括紫铜座(6)、阴极头(5)和阴极冷却套(7)；所述的紫铜座(6)与阴极冷却套(7)同轴安装，所述的阴极头(5)设于紫铜座(6)端部的沉孔内；所述的阴极冷却套(7)一端开口作为冷却水入口(15)，侧壁加工开口作为冷却水出口，所述的紫铜座(6)设于阴极冷却套(7)的另一端开口处；

所述的阳极组件(3)包括同轴安装的阳极(8)和阳极冷却套(9)，所述的阳极冷却套(9)为具有三层套体的双层夹层间隙结构，外层套体和中间层套体之间具有外夹层间隙中间层套体和内层套体之间具有内夹层间隙，其中内外层夹层间隙在端口相通；在外层套体上加工阳极冷却水出口(18)，在中间层套体和外层套体上加工阳极冷却水入口(17)，阳极冷却水出口(18)与外侧夹层间隙相通，阳极冷却水入口(17)与内层夹层间隙相通，阳极冷却水入口(17)、内层夹层间隙、外侧夹层间隙和阳极冷却水出口(18)形成的冷却水通道；阳极(8)位于阳极冷却套(9)内，且与阳极冷却套(9)的内层套体密封固定连接；所述的阳极冷却套(9)上设有工质气体入口(11)；

所述的绝缘套筒(2)位于阴极冷却套(7)，且与阴极冷却套(7)具有一定间隙作为工质气体通道，所述间隙与阳极(8)上的阳极通道相通；绝缘套筒(2)与所述的阳极冷却套(9)的内层套体紧密贴合，所述的绝缘套筒(2)上的周向均匀布置8～10个工质气体进气孔(19)，其中一个与阳极冷却套(9)上的工质气体入口(11)相通。

2.如权利要求1所述的一种用于粉末球化处理或精细涂覆的等离子体发生器，其特征在于：所述的阴极冷却套(7)的另一端侧壁上设有螺旋通道(13)。

3.如权利要求2所述的一种用于粉末球化处理或精细涂覆的等离子体发生器，其特征在于：所述的螺旋通道(13)为突出的螺旋结构。

4.如权利要求2所述的一种用于粉末球化处理或精细涂覆的等离子体发生器，其特征在于：所述的绝缘套筒(2)的一端与阴极冷却套(7)螺纹密封连接，另一端与阴极冷却套(7)上的螺旋通道(13)接触。

5.如权利要求1所述的一种用于粉末球化处理或精细涂覆的等离子体发生器，其特征在于：所述的阳极(8)的中心轴向加工通孔作为阳极通道，阳极(8)一端加工成中空的锥体结构，其与绝缘套筒(2)连接，并且与阳极冷却套(9)的内层套体密封连接，阳极(8)另一端加工成突出部，且边缘带有翻边结构，突出部通过阳极固定法兰(10)与阳极冷却套(9)连接固定。

6.如权利要求5所述的一种用于粉末球化处理或精细涂覆的等离子体发生器，其特征在于：所述的锥体结构的大端与等离子体工质气体通道相通，小端与阳极通道相通，阳极(8)的出口处设置有两端对称的送粉口(4)，送粉口(4)与阳极通道相通。

7.如权利要求6所述的一种用于粉末球化处理或精细涂覆的等离子体发生器，其特征在于：所述的中间套体的端部加工成向内倾斜的锥体结构，外层套体端部加工阶梯状。

8.如权利要求1所述的一种用于粉末球化处理或精细涂覆的等离子体发生器，其特征在于：所述的紫铜座(6)一端加工成阶梯结构用于与阴极冷却套(7)定位安装，另一端加工为锥面中心加工有沉孔，沉孔内紧密安装阴极头(5)。

9.如权利要求1所述的一种用于粉末球化处理或精细涂覆的等离子体发生器，其特征在于：所述的阴极头(5)头部伸出锥面一端端面，且阴极头(5)头部加工为球形。

10.如权利要求1所述的一种用于粉末球化处理或精细涂覆的等离子体发生器，其特征在于：还包括阴极连接法兰(12)，其连接固定绝缘套管(2)和阳极冷却套(9)的底部。