[发明专利]MEMS中的薄膜应力检测结构及其制备方法

权利要求书

1.一种MEMS中的薄膜应力检测结构，其特征在于，包括：

基板(20)；

指针(510)，与所述基板(20)的表面间隔设置，所述指针(510)包括指针端(511)；

第一悬臂(520)和第二悬臂(530)，分别与所述基板(20)的表面间隔设置，所述第一悬臂(520)和所述第二悬臂(530)分别错位设置于所述指针(510)的两侧，所述第一悬臂(520)包括相对的第一端(521)和第二端(522)，所述第二悬臂(530)包括相对的第三端(531)和第四端(532)，沿所述指针(510)的延伸方向，所述第一端(521)与所述第三端(531)交错连接于所述指针(510)的两侧；

第一支撑体(30)和第二支撑体(40)，所述第一支撑体(30)和所述第二支撑体(40)设置于所述基板(20)的表面，所述第二端(522)与所述第一支撑体(30)连接，所述第四端(532)与所述第二支撑体(40)连接；

标尺(60)，设置于所述基板(20)的表面，所述标尺(60)与所述指针端(511)间隔设置，所述标尺(60)包括刻度标识(601)，所述刻度标识(601)用于标识所述指针端(511)的位置。

2.如权利要求1所述的MEMS中的薄膜应力检测结构，其特征在于，所述第一端(521)连接于所述指针(510)的中部(512)。

3.如权利要求1所述的MEMS中的薄膜应力检测结构，其特征在于，所述第一支撑体(30)包括：

第一支柱(310)，设置于所述基板(20)的表面；

第一薄膜体(320)，设置于所述第一支柱(310)远离所述基板(20)的表面，且所述第一薄膜体(320)与所述第二端(522)连接。

4.如权利要求1所述的MEMS中的薄膜应力检测结构，其特征在于，所述第二支撑体(40)包括：

第二支柱(410)，设置于所述基板(20)的表面；

第二薄膜体(420)，设置于所述第二支柱(410)远离所述基板(20)的表面，且所述第二薄膜体(420)与所述第四端(532)连接。

5.如权利要求1所述的MEMS中的薄膜应力检测结构，其特征在于，所述指针(510)、所述第一悬臂(520)和所述第二悬臂(530)分别为直线结构，所述第一悬臂(520)与所述指针(510)的夹角为第一夹角，所述第二悬臂(530)与所述指针(510)的夹角为第二夹角，所述第一夹角与所述第二夹角相等。

6.如权利要求4所述的MEMS中的薄膜应力检测结构，其特征在于，所述第一夹角为直角。

7.如权利要求1所述的MEMS中的薄膜应力检测结构，其特征在于，所述标尺(60)包括：

第三支柱(610)，设置于所述基板(20)的表面，所述第三支柱(610)与所述指针端(511)间隔设置；

标尺薄膜体(620)，设置于所述第三支柱(610)远离所述基板(20)的表面，所述标尺薄膜体(620)靠近所述指针(510)的边缘为弧形结构，所述刻度标识(601)设置于所述弧形结构。

8.如权利要求7所述的MEMS中的薄膜应力检测结构，其特征在于，所述刻度标识(601)为多个锯齿结构，所述多个锯齿结构设置于所述弧形结构的边缘。