[发明专利]一种利用MC-ICP-MS测定硫化物中Pb同位素比值的方法有效

专利信息
申请号: 201911141337.3 申请日: 2019-11-20
公开(公告)号: CN110702773B 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 陈璐;吴杰杰;刘婷;刘艳芳 申请(专利权)人: 武汉上谱分析科技有限责任公司
主分类号: G01N27/62 分类号: G01N27/62;G01N1/44
代理公司: 武汉诚儒知识产权代理事务所(普通合伙) 42265 代理人: 刘天钰
地址: 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区北斗路6号武*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 利用 mc icp ms 测定 硫化物 pb 同位素 比值 方法
【说明书】:

发明提供了一种利用MC‑ICP‑MS测定硫化物中Pb同位素比值的方法,包括以下步骤:称取硫化物样品放置于溶样罐中,按照消解程序进行消解;利用阴离子交换树脂对待测液中的Pb同位素分离回收;MC‑ICP‑MS仪器采用Jet+X锥组合和干泵,同时选用微量雾化器;采用Pb单元素溶液用于优化仪器操作参数;采用Pb国际标准溶液作为质量监控和外部校正标样,在每个标样和测试液中均添加铊溶液,然后将标样和测试液上机测试,并采集测试数据;最后根据测试数据得到校正后的Pb同位素比值。本发明提供的测定硫化物中Pb同位素比值的方法可靠性高,样品用量少,前处理简单,检测时间短,灵敏度高、精密度高,稳定性好。

技术领域

本发明涉及地球科学技术领域,特别涉及一种利用MC-ICP-MS准确测定硫化物中Pb同位素比值的方法。

背景技术

自然界中Pb有4种稳定同位素:204Pb,2 06Pb,207Pb和208Pb。其中204Pb的半衰期较长,为1.4×1017年,一般被当成稳定的参考同位素处理,而206Pb、207Pb和208Pb具有放射性,分别是238U、2 35U和232Th的衰变产物,丰度值随环境不同而不断变化,且铅同位素由于质量数大,同位素间的相对质量差较小,几乎不会发生同位素分馏,所以同位素比值受外界环境变化较小。因Pb同位素比值在自然界用处很大,既可以用于Pb-Pb同位素定年,也可以用于同位素示踪,因而,Pb同位素比值可以被广泛应用于地球起源演化、地质、环境等诸多方面。在放射成因同位素中,Pb同位素是地球化学最有应用前景的,在矿产资源勘查领域,Pb同位素作为有效的示踪手段,长期为研究成矿时代、成矿物质来源和成矿介质与条件提供重要依据与线索。

硫化物是重要的矿产资源,属于高基体样品,矿物成分复杂,含有常量的硫,影响到样品前处理,在酸法消解过程中容易产生沉淀或不溶物,影响测试的精度与准确度,因此硫化物前处理问题一直是悬而未决的测试分析难题,而且传统同位素测定方法采用热电离源质谱(TIMS)、火花源质谱(SSMS)及激光共振电离质谱(RIS),其中,TIMS精密度较高可达到0.001%~0.01%,但存在样品测定时间长(0.5h~3h)、预处理过程复杂、分离复杂等问题,用RIS测定同位素比值,不须预处理,而是直接用激光汽化、电离,可快速、实时地进行Pb同位素比值测定,但其需要对所选择同位素的每一原子完成选择性光电离,而饱和激发和饱和电离所需的激光强度一般是不一样的,故如何选择最佳电离,是个难点。

在放射成因同位素中,Pb同位素是地球化学最有应用前景的,在矿产资源勘查领域,Pb同位素作为有效的示踪手段,长期为研究成矿时代、成矿物质来源和成矿介质与条件提供重要依据与线索。因此,本领域技术人员需要一种前处理快速、简单、高效消解硫化物样品的方法和稳定性好、检测时间短、灵敏度高、精确度高的测定硫化物中Pb同位素比值的方法。

发明内容

本发明的目的在于提供一种稳定性好、检测时间短、灵敏度高、精确度高的测定硫化物中Pb同位素比值的方法,同时还提供了一种快速、简单、高效消解硫化物样品的方法,解决了背景技术中的不足。

实现本发明上述目的所采用的技术方案为:

一种利用MC-ICP-MS测定硫化物中Pb同位素比值的方法,包括以下步骤:

(1)、硫化物的消解处理:称取硫化物样品放置于溶样罐中,按照消解程序进行消解:首先添加盐酸溶液后封盖加热并保温,停止加热待冷却后开盖将样品蒸干,再添加盐酸和硝酸溶液后封盖加热并保温,停止加热待冷却后开盖将样品蒸干,再次添加盐酸溶液后直接加热将样品蒸干,最后添加氢溴酸溶液定容并转移至离心管中离心处理,得到待测液;

(2)、Pb同位素分离回收:利用阴离子交换树脂对待测液中的Pb同位素分离回收,首先进行洗柱处理,然后将待测液加入柱中,先采用氢溴酸溶液淋洗并弃液,然后在柱中加入盐酸溶液并收集含有Pb同位素的溶液,将所收集的溶液蒸干并加入硝酸溶液后再次蒸干,最后加入硝酸溶液定容,得到测试液;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉上谱分析科技有限责任公司,未经武汉上谱分析科技有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911141337.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top