[发明专利]一种单斜相钽铌酸铽磁光晶体及其制备方法和应用在审
申请号: | 201911141378.2 | 申请日: | 2019-11-20 |
公开(公告)号: | CN110699751A | 公开(公告)日: | 2020-01-17 |
发明(设计)人: | 丁守军;黄仙山;唐绪兵;任浩;葛瑞 | 申请(专利权)人: | 安徽工业大学 |
主分类号: | C30B29/30 | 分类号: | C30B29/30;C30B15/20;G02F1/09 |
代理公司: | 34120 合肥顺超知识产权代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人: | 徐文恭 |
地址: | 243002 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 磁光晶体 单斜 酸铽 钽铌 提拉法晶体生长 制备方法和应用 磁光传感器 磁光调制器 磁光隔离器 近红外区域 磁光开关 磁光器件 磁光性能 电子交换 对称结构 高透过率 器件领域 稀土离子 优质单晶 低成本 生长 熔体 组份 制作 生产 | ||
1.一种单斜相钽铌酸铽磁光晶体,其特征在于,所述磁光晶体的化学式为TbTaxNb1-xO4,其中0≤x≤1。
2.如权利要求1所述的单斜相钽铌酸铽磁光晶体,其特征在于,所述磁光晶体为TbTaO4,其Verdet常数在633nm处为-105rad/m·T。
3.如权利要求1或2所述的单斜相钽铌酸铽磁光晶体,其特征在于,所述磁光晶体为单斜结构,空间群为P21/c,熔点在1800℃以上,且晶胞参数、物化性能及Verdet常数随着x取值的不同而略微不同。
4.如权利要求1或2所述的单斜相钽铌酸铽磁光晶体,其特征在于,所述磁光晶体生长采用熔体提拉法,所述磁光晶体生长所使用的坩埚容器为铱金坩埚。
5.如权利要求1或2所述的单斜相钽铌酸铽磁光晶体,其特征在于,该磁光晶体的制备方法包括以下步骤:
1)按TbTaxNb1-xO4(0≤x≤1)晶体化学计量比准确称取Tb4O7,Ta2O5,Nb2O5初始原料;
2)将步骤1)所称取的原料进行充分混合,然后采用冷等静压机压制成块状,接着装入氧化铝坩埚内,放入马弗炉内进行烧结,烧结温度为1300℃~1500℃,烧结时间为24~72h,烧结得到钽铌酸铽磁光晶体多晶原料;
3)将步骤2)制得的钽铌酸铽磁光晶体多晶原料放入晶体生长用的铱金坩埚内,将坩埚放入提拉单晶炉内,抽真空并冲入保护气体,采用电阻或中频/高频感应加热,直至多晶原料充分熔化,恒温2h,得晶体生长初始熔体;
4)将步骤3)制得的晶体生长初始熔体采用熔体法晶体生长工艺进行单晶生长,采用TbTaO4或TbNbO4单晶作为籽晶,将籽晶缓慢放入熔体中,依次经过放肩、等径、收尾生长过程完成单晶提拉生长;
5)单晶生长完成后将晶体提拉出熔体约0.5-5mm,然后停止提拉、缓慢降低温度至室温,开炉并取出晶体,得到钽铌酸铽磁光晶体。
6.如权利要求5所述的单斜相钽铌酸铽磁光晶体,其特征在于,步骤1)中,所述初始原料Tb4O7,Ta2O5,Nb2O5的纯度均高于99.99%。
7.如权利要求5所述的单斜相钽铌酸铽磁光晶体,其特征在于,所用籽晶方向为[100]、[010]、或[001]方向。
8.如权利要求5所述的单斜相钽铌酸铽磁光晶体,其特征在于,步骤4)中,熔体法晶体生长工艺参数为:提拉速度为0.5-2mm/h,旋转速度为3-15rpm,降温速率为20-50℃/h。
9.如权利要求1-2、6-8所述的单斜相钽铌酸铽磁光晶体在光学和通讯领域的应用。
10.如权利要求9所述的单斜相钽铌酸铽磁光晶体在光学和通讯领域的应用,其特征在于,该磁光晶体用于制作磁光器件,所述磁光器件包括磁光隔离器、磁光调制器、磁光传感器、磁光开关。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安徽工业大学,未经安徽工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911141378.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种高柔性Al
- 下一篇:分步生长弱磁性Fe-V共掺杂SiC晶体的方法