[发明专利]基于枝形环抱电极的可见光通信器件及其制备方法在审
申请号: | 201911142237.2 | 申请日: | 2019-11-20 |
公开(公告)号: | CN110911535A | 公开(公告)日: | 2020-03-24 |
发明(设计)人: | 孙慧卿;施锡城;郭志友 | 申请(专利权)人: | 华南师范大学 |
主分类号: | H01L33/38 | 分类号: | H01L33/38;H01L33/40;H01L33/00 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 仵乐娟 |
地址: | 510631 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 环抱 电极 可见 光通信 器件 及其 制备 方法 | ||
1.基于枝形环抱电极的可见光通信器件,其包括,衬底、N型GaN层、有源层、P型GaN层、N电极、P电极、正极以及负极,所述N型GaN层设置于所述衬底上,所述有源层设置于所述N型GaN层上,所述P型GaN层设置于所述有源层上,所述N电极设置于所述N型GaN层表面,所述P电极设置于所述P型GaN表面,所述正极与所述P电极连接,所述负极与所述N电极连接,其特征在于,
所述N电极包括从负极延伸的N主枝电极以及从N主枝电极分叉的N枝形环抱电极;
所述P电极包括从正极延伸的P主枝电极以及从P主枝电极分叉的P枝形环抱电极;
所述N主枝电极与所述P主枝电极在投影面上延伸为同一直线,所述N枝形环抱电极与所述P枝形环抱电极在投影面上间隔设置。
2.根据权利要求1的所述可见光通信器件,其特征在于,所述N枝形环抱电极与所述P枝形环抱电极在其投影面上呈同心圆环状,所述同心圆环具有缺口,所述N主枝电极位于所述P枝形环抱电极的缺口中,所述P主枝电极位于所述N枝形环抱电极的缺口中。
3.根据权利要求1的所述可见光通信器件,其特征在于,所述N主枝电极与所述P主枝电极在正投影面上位于同一直线。
4.根据权利要求1-3之一的所述可见光通信器件,其特征在于,所述P主枝电极的一端为正极(8),另一端为一枝形环抱电极。
5.根据权利要求1-3之一的所述可见光通信器件,其特征在于,所述N主枝电极的一端为负极(10),另一端为一枝形环抱电极。
6.根据权利要求1-3之一的所述可见光通信器件,其特征在于,所述有源层以及所述P型GaN层中设置有开口槽,所述N电极位于所述开口槽中。
7.根据权利要求5的所述可见光通信器件,其特征在于,在所述衬底上设置有SiO2绝缘层,所述正极(8)设置于所述SiO2绝缘层上。
8.根据权利要求1-3之一的所述可见光通信器件,其特征在于,所述N枝形环抱电极的数量为偶数,所述P枝形环抱电极的数量为奇数。
9.根据权利要求8的所述可见光通信器件,其特征在于,所述N电极以及所述P电极的材料为铝铜合金。
10.基于枝形环抱电极的可见光通信器件的制备方法,其包括如下步骤:
采用MOCVD法在衬底上沉积包含有N型GaN层、有源层以及P型GaN层的外延结构;
刻蚀所述外延结构,形成N型GaN台,并在所述有源层以及P型GaN层中形成环状开口凹槽,所述环状开口凹槽的一端未连通,与所述开口凹槽未连通的相对一端刻蚀有线状开口凹槽;
沉积SiO2绝缘台面,该SiO2绝缘台面与所述P型GaN层齐平;
在所述开口凹槽中蒸镀N电极,同时在所述P型GaN上蒸镀P电极,所述P电极包含在投影方向上位于所述开口凹槽之间的枝形P电极,所述枝形P电极延伸至所述SiO2台面。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华南师范大学,未经华南师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911142237.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种C6烃吸附分离系统
- 下一篇:一种提高燃气燃烧效率的灶具及方法