[发明专利]一种抗体药物生产工艺中碎片的修复方法

权利要求书

1.一种抗体药物生产工艺中碎片的修复方法，包括如下步骤:

（1）构建反应动力学模型，表达式为:

[L]_t=[L]₀+∫₀^t(-k₁[L][H]-k₂[L][HH]-k₃[L][HHL])dt (13)

[H]_t=[H]₀+∫₀^t(-k₁[L][H]-2k₄[H]²-k₅[H][HL])dt (14)

[HL]_t=[HL]₀+∫₀^t(k₁[L][H]-k₅[H][HL]-2k₆[HL]²)dt (15)

[HH]_t=[HH]₀+∫₀^t(-k₂[L][HH]+k₄[H]²)dt (16)

[HHL]_t=[HHL]₀+∫₀^t(k₂[L][HH]-k₃[L][HHL]+k₅[H][HL])dt (17)

[Mono]_t=[Mono]₀+∫₀^t(k₃[L][HHL]+k₆[HL]²)dt (18)

根据上述表达式（13）～（18）计算一定的工艺处理时间后，抗体碎片的浓度，其中，k₁～k₆是每一个基元反应的相应速率常数，L表示IgG轻链、H表示IgG重链、HH表示IgG重重碎片、HL表示IgG半聚体、HHL表示IgG重重轻碎片以及MONO表示IgG完整单体，t表示工艺处理时间，0表示工艺处理之初；

（2）使用步骤（1）中动力学模型模拟蛋白药物分子的碎片化和修复过程；

（3）将需要研究的影响IgG二硫键 再氧化的影响因子通过步骤（1）中动力学模型进行分析拟合；

（4）根据步骤（3）计算机运算的模型拟合结果，推演出最优的蛋白药物分子碎片的修复条件并通过实验进行验证。

2.权利要求1所述的修复方法，其中包括对所述碎片中断裂的二硫键的再氧化，进行所述氧化反应时溶液中pH为8～10。

3.权利要求2所述的修复方法，其中，所述氧化反应时温度为20～34℃。

4.权利要求2所述的修复方法，其中，所述氧化反应时溶液中半胱氨酸的浓度为1mM。

5.权利要求2所述的修复方法，其中，所述氧化反应时溶液中胱氨酸的浓度为0.3 mM。

6.权利要求2所述的修复方法，其中，所述氧化反应时溶液的电导率小于7.3 ms/cm。

7.权利要求2所述的修复方法，其中，所述氧化反应时溶液中半胱氨酸的浓度为1mM，胱氨酸的浓度为0.3 mM，pH为8，氧化反应温度为20℃，电导率小于7.3 ms/cm，溶液中有蛋白A树脂。