[发明专利]一种电絮凝耦合紫外光降解Cu-EDTA的废水处理系统及方法在审

专利信息
申请号: 201911149357.5 申请日: 2019-11-21
公开(公告)号: CN110835190A 公开(公告)日: 2020-02-25
发明(设计)人: 谢世伟;詹慧;李庆杰 申请(专利权)人: 武汉科技大学
主分类号: C02F9/08 分类号: C02F9/08;C02F101/20;C02F101/34;C02F103/34
代理公司: 武汉华旭知识产权事务所 42214 代理人: 江钊芳;刘荣
地址: 430081 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 絮凝 耦合 紫外 光降解 cu edta 废水处理 系统 方法
【说明书】:

发明提供了一种电絮凝耦合紫外光降解Cu‑EDTA的废水处理系统及方法,其系统包括电解单元,所述电解单元后面依次连接有静置沉淀单元、紫外光解单元和pH调节单元。本发明的废水处理方法包括:电解步骤、静置沉淀步骤、紫外光解步骤和pH调节步骤。本发明根据Cu‑EDTA络合废水的特性,将电絮凝技术与紫外光降解技术相结合,即利用铁阳极电解快速投加二价铁形成缺氧环境,继而产生的大量结构态二价铁将Cu‑EDTA置换为Fe(III)‑EDTA,其中Cu被吸附沉淀去除,再利用紫外光降解技术将Fe(III)‑EDTA去除。本发明通过电解原位投加铁,具有方便、快捷且不引入杂质阴离子的特点,耦合紫外光降解技术,对Cu‑EDTA去除效率达99%以上,是一种绿色、经济、安全和实用的重金属络合废水处理技术。

技术领域

本发明涉及一种电絮凝耦合紫外光降解Cu-EDTA的废水处理系统及方法,属于环保、污水处理技术领域。

背景技术

在电路板的生产中,通常会使用各种电镀添加剂,而这些添加剂成分复杂,含有能与重金属形成稳定螯合物的螯合剂,其中EDTA最为典型,在化学沉铜工艺中金属铜就会与EDTA络合形成Cu-EDTA络合物,其稳定性极强,不易降解,如不得到有效处理将会对人类的生活环境造成严重的影响,甚至会危害到人类的身体健康。

传统的污水处理方法中,自由金属离子可以通过碱性沉淀或离子交换等传统工艺轻易去除,但如果自由金属离子与EDTA络合之后,其稳定性较强,则难以通过传统的污水处理方法去除。目前,含Cu-EDTA废水的处理方法主要有吸附法、芬顿氧化法、光催化法、置换法、氧化沉淀法等。然而,上述方法在很大程度上受到相对较高的成本、较差的选择性、较低的效率和对溶液化学组成高敏感性等因素的限制。其中以铁盐为基础的置换-沉淀法因其成本相对较低,且除Cu效率高而受到广泛关注,但铁盐置换法操作繁琐,容易引入新的杂质金属离子,且其对Cu-EDTA废水的酸碱度要求较高,仅对pH<3酸性废水具有较好的清除效果,对于pH≥3的废水则清除效果不佳。现有技术的电絮凝方法,使用铁板阳极可以原位投加铁离子,相对于投加铁盐具有更加方便、快捷,且不引入杂质阴离子的特点,但其缺点是对EDTA的降解效率较低。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术中存在的不足,并提供一种电絮凝耦合紫外光降解Cu-EDTA的废水处理系统及方法,可以使废水中的Cu离子和EDTA均有较高的去除效率,且生产成本较低,装置简单易维护,节约资源且对环境友好,不会产生二次污染。

为实现上述目的,本发明采用的技术方案是:

一种电絮凝耦合紫外光降解Cu-EDTA的废水处理系统,包括电解单元,其特征在于:所述电解单元后面依次连接有静置沉淀单元、紫外光解单元和pH调节单元;

所述电解单元包括第一水容器,第一水容器设有第一进水口和一级出水口,一级出水口在容器侧壁顶端,第一水容器中安装有阴阳电极,阴阳电极均为铁板,电极之间安装的距离为0.5cm~2cm,阴阳电极分别与设置在第一容器外部的直流电源的正负极相连接;

所述静置沉淀单元包括第二水容器,第二水容器上设有第二进水口和二级出水口,第二进水口与一级出水口相连接;

所述紫外光解单元包括第三水容器,第三水容器上设有第三进水口和三级出水口,第三水容器内安装有一个或多个紫外灯,紫外灯均匀竖直放置在容器壁周围;

所述pH调节单元包括第四水容器,第四水容器上设有第四进水口和四级出水口,四级出水口即净化水出水口,第四进水口与紫外光解单元水容器的三级出水口相连接。

对本发明技术方案废水处理系统的进一步改进是:

所述第一水容器、第三水容器和第四水容器内可分别设有搅拌装置。

所述静置沉淀单元的二级出水口处设置有浊度测试装置。

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