[发明专利]基于螺旋相衬成像的反射式太赫兹成像方法及装置在审

专利信息
申请号: 201911152420.0 申请日: 2019-11-20
公开(公告)号: CN110793943A 公开(公告)日: 2020-02-14
发明(设计)人: 吴世有;刘辉;李超;常超;方广有 申请(专利权)人: 中国科学院电子学研究所
主分类号: G01N21/55 分类号: G01N21/55;G01N21/3581;G01N21/3563;G01N21/17;G01N21/01
代理公司: 11021 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 吴梦圆
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 波束 传播距离 调制 反射 透镜 相衬成像 成像 太赫兹成像 成像目标 高对比度 螺旋相位板 波束辐射 技术引入 相机接收 反射式 分束镜 频谱 准直
【权利要求书】:

1.一种基于螺旋相衬成像的反射式太赫兹成像方法,包括:

准直的太赫兹波束经分束镜反射后得到反射波束;

反射波束辐射到成像目标并经成像目标反射后得到第一波束;

第一波束传播距离f后经过第一透镜调制后得到第二波束;

第二波束传播距离f后经过频谱面的螺旋相位板调制后得到第三波束;

第三波束传播距离f后经过第二透镜调制后得到第四波束;

第四波束经第二透镜调制后传播距离f被太赫兹相机接收成像。

2.根据权利要求1所述的反射式太赫兹成像方法,其特征在于,

所述第一波束传播距离f过程中经所述分束镜透射后到达第一透镜。

3.根据权利要求1所述的反射式太赫兹成像方法,其特征在于,

所述第一透镜和第二透镜均为凸透镜,第一透镜和第二透镜的焦距均为f。

4.根据权利要求1所述的反射式太赫兹成像方法,其特征在于,

经所述成像目标反射后的第一波束起始位置的场分布E1(x1,y1)为:

E1(x1,y1)=E0(x1,y1)t(x1,y1);

其中,t(x1,y1)为目标的反射函数,E0(x1,y1)为辐射到成像目标的场分布,(x1,y1)为目标平面的坐标。

5.根据权利要求4所述的反射式太赫兹成像方法,其特征在于,

所述第一波束到达第一透镜的场分布E2(x2,y2)满足:

F{E2(x2,y2)}=F{E1(x1,y1)}H(fx,fy);

其中,F{·}为傅里叶变换,fx=x2/λf,fy=y2/λf,j为虚数单位,λ为太赫兹波波长,(x2,y2)为第一透镜所在平面的坐标。

6.根据权利要求5所述的反射式太赫兹成像方法,其特征在于,

第二波束到达所述频谱面的场分布E3(x3,y3)为:

其中,k为波数,为第一透镜的调制函数,(x3,y3)为频谱面的坐标。

7.根据权利要求6所述的反射式太赫兹成像方法,其特征在于,

所述第三波束到达第二透镜的场分布E4(x4,y4)为:

其中,为螺旋相位板的调制函数,为频谱面的方位角,fx=x4/λf,fy=y4/λf,(x4,y4)为第二透镜所在平面的坐标,ρ是(x4,y4)平面的径向长度,R是螺旋相位板的半径。

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