[发明专利]一种在局部维持恒定均匀磁场且方向强度精密调节的装置有效
| 申请号： | 201911162325.9 | 申请日： | 2019-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN110837068B | 公开（公告）日： | 2021-08-20 |
| 发明（设计）人： | 李中豪;刘俊;唐军;郭浩;王天宇;马宗敏;温焕飞 | 申请（专利权）人： | 中北大学 |
| 主分类号： | G01R33/24 | 分类号： | G01R33/24;H01F7/02 |
| 代理公司： | 太原科卫专利事务所(普通合伙) 14100 | 代理人： | 朱源;武建云 |
| 地址： | 030051*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 局部 维持 恒定 均匀 磁场 方向 强度 精密 调节 装置 | ||
1.一种在局部维持恒定均匀磁场且方向强度精密调节的装置，包括带旋转平台的双轴线性位移平台（1），手动线性位移台（4）、光学导轨（5）、手动旋转位移台（6）、单轴位移台（7）及光学姿态调整器（3）、支架（8）；
其特征在于：所述支架（8）的底部固定安装于带旋转平台的双轴线性位移平台（1）的旋转平台（11）上，所述单轴位移台（7）纵向固定安装于支架（8）顶部，所述单轴位移台（7）的活动座上固定安装手动旋转位移台（6），所述手动旋转位移台（6）的旋转部（61）上横向固定安装光学导轨（5），所述光学导轨（5）两侧分别设有滑块（51），所述滑块（51）上固定安装手动线性位移台（4），所述手动线性位移台（4）的活动端安装光学姿态调整器（3），所述光学姿态调整器（3）安装有圆柱形永磁体（2），两个圆柱形永磁体（2）的N极和S极相向，每个圆柱形永磁体（2）上缠绕有线圈。
2.根据权利要求1所述的一种在局部维持恒定均匀磁场且方向强度精密调节的装置，其特征在于：所述带旋转平台的双轴线性位移平台（1）沿X轴和Y轴方向上的位移行程为13mm，分度为10μm。
3.根据权利要求1或2所述的一种在局部维持恒定均匀磁场且方向强度精密调节的装置，其特征在于：所述单轴位移台（7）的行程范围为25.0mm，分度为10μm。
4.根据权利要求3所述的一种在局部维持恒定均匀磁场且方向强度精密调节的装置，其特征在于：所述光学导轨（5）的导轨长度范围为300mm，导轨刻度的分度为1.0mm。
5.根据权利要求4所述的一种在局部维持恒定均匀磁场且方向强度精密调节的装置，其特征在于：所述手动线性位移台（4）的行程6.5mm，分度为0.05mm。
6.根据权利要求5所述的一种在局部维持恒定均匀磁场且方向强度精密调节的装置，其特征在于：所述光学姿态调整器（3）提供±4°的角位移范围，以及15mrad/圈的旋转调整。
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