[发明专利]一种半导体圆晶表面杂质去除设备及其操作方法有效
申请号: | 201911164504.6 | 申请日: | 2019-11-25 |
公开(公告)号: | CN111029277B | 公开(公告)日: | 2022-04-19 |
发明(设计)人: | 岳凤芳 | 申请(专利权)人: | 大同新成新材料股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;B01D29/01 |
代理公司: | 太原荣信德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 14119 | 代理人: | 杨凯;连慧敏 |
地址: | 037002 *** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 半导体 表面 杂质 去除 设备 及其 操作方法 | ||
1.一种半导体圆晶表面杂质去除设备,包括清洗槽(1),其特征在于:所述清洗槽(1)为矩形状,所述清洗槽(1)顶面为敞口,所述清洗槽(1)底面四角均固接有支撑杆(33),所述清洗槽(1)底面中部设有出水管(24),所述出水管(24)的出水口固接有开关阀(34),所述开关阀(34)的出水口固接有过滤管(26),所述清洗槽(1)底面下方设有矩形状的储水箱(35),所述过滤管(26)的出水口位于储水箱(35)内,所述储水箱(25)顶面一端设有水泵(29),所述水泵(29)的进水口位于储水箱(35)内,所述水泵(29)的出水口固接有送水管(30),所述送水管(30)的出水口固接三通阀(31),所述三通阀(31)的一个出水口位于清洗槽(1)内,所述三通阀(31)另一个出水口固接有导水管(32),所述清洗槽(1)两侧面中部均固接有L型的固定杆(2),所述清洗槽(1)顶面上方设有矩形状的固定板(3),所述固定板(3)两端底面均与对应固定杆(2)顶端固接,所述固定板(3)底面两端均固接有电动推杆(4),每根电动推杆(4)的活动端均固接有矩形状的固定框(5),每个固定框(5)内均设有防水电机(6),每台防水电机(6)的电机轴均固接有圆柱形的连接柱(7),所述固定板(3)底面一端设有热风机(17),所述固定板(3)底面中部固接有限位杆(18),所述限位杆(18)底端固接矩形状的安装板(19),所述安装板(19)底面一侧固接矩形状的喷水管(20),所述安装板(19)底面另一侧固接有矩形状的喷气管(22),所述喷气管(22)的进气口通过导气管与热风机(17)的出气口固接,所述喷水管(20)的进水口与导水管(32)的出水口固接,所述清洗槽(1)内底面上方设有矩形状的支撑框(11),所述支撑框(11)顶面四角均固接有矩形状的限位杆(12),所述支撑框(11)顶面上方设有矩形状的限位框(13),所述限位框(13)一侧面两端均与对应的限位杆(12)顶端铰接,每根限位杆(12)中部均固接有连接杆(9),每根连接杆(9)的另一端均与对应连接柱(7)固接,所述清洗槽(1)一侧面下端设有电源箱(36);
所述支撑框(11)顶面两侧均设有矩形状的下限位板(15),每块下限位板(15)均呈倾斜设置,每块限位板(15)顶面均间距分布有矩形状的下卡槽,所述限位框(13)底面中部固接有上限位板(14),所述上限位板(14)底面间距分布有矩形状的上卡槽。
2.根据权利要求1所述一种半导体圆晶表面杂质去除设备,其特征在于:所述限位框(13)一侧顶面两端均设有限位螺杆(16),所述限位框(13)一侧面两端均与对应限位杆(12)一侧面铰接。
3.根据权利要求1所述一种半导体圆晶表面杂质去除设备,其特征在于:所述喷水管(20)底面分布有若干清水喷嘴(21),所述喷气管(22)底面间距分布有热气喷嘴(23)。
4.根据权利要求1所述一种半导体圆晶表面杂质去除设备,其特征在于:所述连接柱(7)外侧设有固定环(8),所述固定环(8)由两块半圆环组成,所述两块半圆环一端通过销轴连接、另一端通过紧固螺栓连接,所述固定环(8)两侧面均设有矩形状的固定槽,每根连接杆(9)两端均设有圆形的连接孔,每根连接杆(9)一端均位于对应的固定槽内、且通过固定螺栓连接。
5.根据权利要求2所述一种半导体圆晶表面杂质去除设备,其特征在于:每根限位杆(12)中部均固接有矩形状的连接槽(10),每个连接槽(10)一侧面均设有矩形状的限位槽,每根连接杆(9)另一端均位于对应的限位槽内、且通过固定螺栓固接。
6.根据权利要求1所述一种半导体圆晶表面杂质去除设备,其特征在于:所述过滤管(26)上端螺旋连接有圆柱形的密封盖(25),所述过滤管(26)上端内壁设有限位环,所述过滤管(26)内壁设有圆桶状的过滤网罩(28),所述过滤网罩(28)上端固接有安装环,所述安装环与限位环固接,所述过滤管(26)底端固接有波纹软管(27),所述波纹软管(26)的出水口位于储水箱(35)内。
7.根据权利要求1-6任一所述的一种半导体圆晶表面杂质去除设备的操作方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、接通电源,将电源箱(36)内的电源开关与外设电源连接,并打开电源开关;
S2、夹持,翻转限位框(13),将半导体圆晶放置在对应的下卡槽内,然后固定限位框(13);
S3、清洗,控制电动推杆(4)伸长,将半导体圆晶下移到清洗槽(1)内,控制防水电机(6)转动;
S4、冲刷,控制电动推杆(4)回缩,打开水泵(29)对半导体圆晶表面进行冲刷;
S5、干燥,打开热风机(17),对半导体圆晶表面进行干燥;
S6、收取,翻转限位框(13),取出半导体圆晶,固定限位框(13),
S7、关闭电源。
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