[发明专利]一种可调等离子体射流装置和喷涂系统

说明书

本发明公开了一种可调等离子体射流装置和喷涂系统，由供气模块和放电模块组成，供气模块包括可控阀门和多个气流通道；放电模块包括多个放电单元，放电单元包括若干个等离子体射流管并呈环状排列；多个放电单元与多个气流通道一一对应相连；多个气流通道的开合由可控阀门调节。通过上述公开的可调等离子体射流装置和喷涂系统，增加等离子体射流管的数量，并通过可控阀门控制等离子体射流管所需的工作气体进行等离子体射流放电，在采用等离子体射流装置对大尺寸材料表面处理时，提高对大尺寸材料表面处理效率。

技术领域

本发明涉及等离子技术领域，具体为一种可调等离子体射流装置和喷涂系统。

背景技术

随着社会的发展，等离子体技术在材料处理、生物医学等领域得到了越来越多的推广和应用。基于介质阻挡放电原理，等离子体射流通过工作气体的流动将放电区域产生的高能活性粒子(活性自由基、带电粒子、高活性分子及原子)传输到工作区域并作用于待处理材料表面，从而改进材料表面性能。等离子体射流结构主要分为单电极、双电极和三电极三种结构方式，其中针环、双环形式的双电极结构通过绝缘介质将高、低压端隔开，能够有效避免放电电弧的产生，同时放电介质管内放电强度高，有利于产生更多的活性粒子。

但是，单个的等离子体射流放电面积有限，通常只有几个平方毫米，在对大尺寸的材料表面处理时，处理效率就显得非常低。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供了一种可调等离子体射流装置和喷涂系统，以解决采用等离子体射流装置对大尺寸材料表面处理时，处理效率低下问题。

为实现上述目的，本发明实施例提供如下技术方案：

本申请第一方面公开了一种可调等离子体射流装置，包括：供气模块和放电模块；

所述供气模块包括可控阀门和多个气流通道；

所述放电模块包括多个放电单元，所述放电单元包括若干个等离子体射流管；

所述多个放电单元与所述多个气流通道一一对应相连；

所述多个气流通道的开合由所述可控阀门调节。

优选的，多个所述等离子体射流管按预设规律排布组成阵列作为所述放电单元。

优选的，若干个所述等离子体射流管均匀排列组成环形阵列作为所述放电单元。

优选的，所述放电模块还包括：高压电极和地电极；

高压电极与多个所述放电单元均配合；

所述地电极一一对应胶结于所述等离子体射流管。

优选的，所述高压电极为多孔结构，各孔与等离子体射流管一一对应。

优选的，所述高压电极能够沿孔轴向相对于所述地电极运动，并通过螺栓固定。

优选的，所述等离子体射流管包括：内层玻璃壁和外层玻璃壁；

所述外层玻璃壁的直径与所述孔的直径一致，所述高压电极与所述外层玻璃壁配合滑动。

优选的，所述供气模块还包括：均流器；

所述多个气流通道一端与所述多个放电单元相连，另一端与所述均流器相连。

优选的，还包括：回收器；

所述回收器与所述多个气流通道相连，用于回收所述多个气流通道中的工作气体。

本申请第二方面公开了一种喷涂系统，包括本申请第一方面公开的可调等离子体射流装置。