[发明专利]微透镜阵列的制备方法、显示装置的制备方法及显示装置

权利要求书

1.一种微透镜阵列的制备方法，其特征在于，包括：

在衬底上涂覆曝光材料层，并划分为多个微透镜区域；

根据透镜相位函数，将所述微透镜区域形成多个采样区域；

利用构图工艺，在所述采样区域形成台阶结构；同一所述微透镜区域内至少部分所述台阶结构的高度不同，同一所述微透镜区域的多个所述台阶结构构成一个微透镜。

2.根据权利要求1所述的微透镜阵列的制备方法，其特征在于，所述利用构图工艺，在所述采样区域形成台阶结构，包括：

将多个预设掩膜版的图案依次与所述采样区域对齐；

对所述曝光材料层进行曝光、显影、刻蚀，在所述采样区域形成所述台阶结构。

3.根据权利要求2所述的微透镜阵列的制备方法，其特征在于，所述预设掩膜版的数量与所述微透镜中的所述台阶结构的数量之间的关系包括：L＝2ⁿ；其中，L表示台阶结构的数量，n表示预设掩膜版的数量。

4.根据权利要求1所述的微透镜阵列的制备方法，其特征在于，在所述微透镜的中心向边缘方向上，多个所述台阶结构的高度单调递减。

5.根据权利要求1所述的微透镜阵列的制备方法，其特征在于，所述根据透镜相位函数，将所述微透镜区域形成多个采样区域，包括：

根据透镜相位函数，在行方向和列方向上对所述微透镜区域进行等间距均匀采样，形成多个所述采样区域。

6.一种显示装置的制备方法，其特征在于，包括如权利要求1-5任一项所述的微透镜阵列的制备方法。

7.根据权利要求6所述的显示装置的制备方法，其特征在于，所述在衬底上涂覆曝光材料层，之前还包括：

在基底上形成多个显示器件；

在多个所述显示器件上形成封装层。

8.根据权利要求7所述的显示装置的制备方法，其特征在于，所述封装层厚度与所述微透镜的焦距相等。

9.根据权利要求7所述的显示装置的制备方法，其特征在于，所述基底包括硅基底；所述显示器件包括发光二极管或有机发光二极管。

10.根据权利要求7所述的显示装置的制备方法，其特征在于，所述封装层为所述微透镜阵列的所述衬底。

11.根据权利要求7所述的显示装置的制备方法，其特征在于，所述利用构图工艺，在所述采样区域形成台阶结构，之后还包括：

在多个所述台阶结构上形成保护层。

12.根据权利要求11所述的显示装置的制备方法，其特征在于，多个所述台阶结构的最高点与最低点之间的相位差为(2π/λ)(n1–n0)h；其中，λ表示入射光线的波长，n1表示台阶结构的折射率，n0表示保护层的折射率，h表示所述台阶结构最高点的高度。

13.一种显示装置，其特征在于，包括：基底、依次位于所述基底上的多个显示器件、封装层、微透镜阵列及保护层；其中，所述微透镜阵列中的每个微透镜包括多个台阶结构。