[发明专利]基于二茂金属化合物的光刻胶及其制备方法和应用

权利要求书

1.式(A)所示的二茂金属化合物，

其中，Ra，Rb相同或不同，彼此独立地选自H或且Ra，Rb不同时为H，中R相同或不同，彼此独立地选自H、OH或酸敏感基团，条件是式(A)中至少具有一个酸敏感基团；处为连接位点；所述酸敏感基团选自-O-COOC_1-20烷基、-O-COC_1-20烷基、-O-COC_3-20环烷基、-O-(CH₂)_n-COOC_3-20环烷基，其中n为0-6的整数，所述C_1-20烷基、C_3-20环烷基进一步任选被一个、两个或更多个卤素或C_1-20烷基取代；

Z选自四价金属Zr、Hf、Ti，Z进一步与两个选自如下的原子相连：H、F、Cl、I、Br。

2.根据权利要求1所述的二茂金属化合物，其特征在于，所述酸敏感基团选自如下结构：

处为连接位点。

3.根据权利要求1或2所述的二茂金属化合物，其特征在于，所述式(A)所示的二茂金属化合物选自如下化合物，

4.权利要求1-3任一项所述二茂金属化合物的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

式(A-1)所示的化合物与酸敏感基团的酸酐或离去基团L与酸敏感基团构成的化合物反应得到式(A)所示的二茂金属化合物，

其中，L选自卤素；

Ra₁，Rb₁相同或不同，彼此独立地选自H或且Ra₁，Rb₁不同时为H；R'相同或不同，彼此独立地选自H或OH，条件是式(A-1)中至少一个R'为OH；

Z、Ra，Rb具有权利要求1-3任一项所述的定义。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述反应还包括(A-1)所示的化合物的制备，包括如下步骤：

S1)式(A-3)所示的化合物与式(A-4)所示的化合物反应得到式(A-2)所示的化合物；

S2)式(A-2)所示的化合物与三溴化硼反应得到式(A-1)所示化合物；

其中，L₁、L₂相同或不同，彼此独立地选自卤素或H，条件是L₁、L₂不同时为H；Ra₂，Rb₂相同或不同，彼此独立地选自H或且Ra₂，Rb₂不同时为H，R”相同或不同，彼此独立地选自H或-OC_1-6烷基，条件是式(A-2)中至少一个R”为-OC_1-6烷基。

6.一种光刻胶组合物，其特征在于，包含权利要求1-3任一项所述式(A)所示的二茂金属化合物。

7.一种正性光刻胶组合物，其特征在于，包括：(a)基体成分，所述基体成分选自权利要求1-3任一项所述式(A)所示的二茂金属化合物；和(b)光致产酸剂。

8.根据权利要求7所述的正性光刻胶组合物，其特征在于，所述正性光刻胶组合物还包括：(c)有机碱；以及(d)有机溶剂。

9.根据权利要求7或8所述的正性光刻胶组合物，其特征在于，所述光刻胶组合物中，组分(a)基体成分的质量占光刻胶组合物总质量的2％-30％。

10.根据权利要求7或8所述的正性光刻胶组合物，其特征在于，所述光致产酸剂为双三氯甲基均三嗪衍生物、鎓盐类化合物、磺内酯化合物、磺酸酯化合物。