[发明专利]一种电子显微镜观测样品及其制备方法

权利要求书

1.一种电子显微镜观测样品的制备方法，其特征在于，所述方法包括：

提供包括目标样品层的试样；

在所述试样上分割出一制样区域，暴露所述制样区域内目标样品层的侧壁；

形成一支撑框架，所述支撑框架至少包覆所述目标样品层的所述侧壁；

对形成所述支撑框架后的所述制样区域内的试样进行减薄，获得位于所述目标样品层内预设厚度的目标样品；对试样进行减薄采用聚焦离子束FIB工艺执行；

所述制样区域满足一预设图形条件，以使暴露出的所述目标样品层的侧壁满足以下条件：在采用FIB工艺对所述试样进行减薄时，所述FIB沿垂直于所述试样的厚度方向上投射至所述支撑框架以及所述目标样品层，以切削掉所述试样上除所述预设厚度的目标样品以外的部分；所述目标样品层的侧壁上任意一面与所述FIB的投射方向之间的夹角大于等于5度；所述制样区域为多边形，所述多边形上至少包括一条边，所述边与所述多边形上其他边之间的夹角小于等于85度或者大于等于95度；

其中，所述支撑框架的材料硬度大于所述目标样品层的材料硬度。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述试样上分割出一制样区域，暴露所述制样区域内目标样品层的侧壁，包括：在所述试样上刻蚀一环绕所述制样区域的沟槽，所述沟槽的深度大于等于所述试样表面到所述目标样品层底面的厚度，以使所述目标样品层的所述侧壁暴露；

所述形成一支撑框架，包括：在所述沟槽内沉积框架材料，所述框架材料的沉积厚度大于等于所述目标样品层的厚度，以使形成的所述支撑框架至少包覆所述目标样品层的所述侧壁；

所述方法还包括：沿所述支撑框架的外边缘进行切割，以分离出带有所述支撑框架的所述制样区域内的试样。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，

所述刻蚀一环绕所述制样区域的沟槽、所述在所述沟槽内沉积框架材料、以及所述沿所述支撑框架的外边缘进行切割的步骤中，至少一个步骤采用FIB工艺执行。

4.一种电子显微镜观测样品，其特征在于，包括：

目标样品；所述目标样品是采用FIB工艺减薄而得到的；其中，所述目标样品的侧壁围成的形状为多边形，所述多边形上至少包括一条边，所述边与所述多边形上其他边之间的夹角小于等于85度或者大于等于95度；所述目标样品的所述侧壁上所述边所在的面作为所述FIB工艺减薄时的切割面，所述FIB沿垂直于所述切割面的方向投射；所述目标样品的侧壁上任意一面与所述FIB的投射方向之间的夹角大于等于5度；

包覆所述目标样品的侧壁的支撑框架；

其中，所述支撑框架的材料硬度大于所述目标样品的材料硬度。