[发明专利]掩膜组件和用于制造该掩膜组件的方法在审
申请号: | 201911169891.2 | 申请日: | 2019-11-26 |
公开(公告)号: | CN111235524A | 公开(公告)日: | 2020-06-05 |
发明(设计)人: | 河在秀;李秀奂;柳光泰;蒋胜旭 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 张红霞;周艳玲 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 组件 用于 制造 方法 | ||
提供一种掩膜组件和用于制造该掩膜组件的方法。所述掩膜组件包括掩膜框架和掩膜。所述掩膜联接到所述掩膜框架以将第一沉积区域至第三沉积区域彼此区分。所述第一沉积区域和所述第三沉积区域中的每个在第一方向上具有比参考宽度大的第一宽度并在第二方向上具有比所述第一宽度小的第二宽度。所述第二沉积区域在所述第一方向上具有比所述第一宽度小的第三宽度并在所述第二方向上具有比所述参考宽度小的第四宽度。
相关申请的交叉引用
本申请要求2018年11月29日递交的韩国专利申请第10-2018-0150724号的优先权,其全部内容通过引用并入本文。
技术领域
本公开在本文中涉及一种掩膜组件以及一种用于制造该掩膜组件的方法,更具体而言,涉及一种能够应用于显示设备的沉积过程的掩膜组件以及一种用于制造该掩膜组件的方法。
背景技术
显示设备通过显示区域输出图像以向用户提供各种视觉信息。显示设备中的有机发光显示设备具有视角宽、对比度优良以及响应速度高的优点。有机发光显示设备的显示区域由多个像素构成。多个像素可通过沉积材料的沉积过程形成显示区域。
有机发光显示设备的沉积过程可通过由掩膜限定的沉积区域来执行。就有机发光显示设备的产量和可靠性而言,掩膜的牢固固定以及沉积区域的定位精度是重要因素。
诸如电视的显示设备已经变成大尺寸。因此,沉积过程所需的掩膜在尺寸上也正在增加。随着掩膜尺寸的增加,在掩膜中提供的构成部分的制造和处理可能受限。
发明内容
本公开提供一种掩膜组件和用于制造该掩膜组件的方法,该掩膜组件具有提高的切割效率并且能够制造具有各种区域的显示面板。
本公开还提供一种掩膜组件和用于制造该掩膜组件的方法,在该掩膜组件中,掩膜的定位精度提高,并且掩膜的变形与台阶部分减少。
本发明概念的一个实施例提供一种包括掩膜框架和掩膜的掩膜组件。所述掩膜框架包括:在第一方向上延伸的第一支撑部件;与所述第一支撑部件间隔开并在所述第一方向上延伸的第二支撑部件;在第二方向上延伸并设置在所述第一支撑部件的一端与所述第二支撑部件的一端之间的第三支撑部件;和与所述第三支撑部件间隔开、在所述第二方向上延伸并设置在所述第一支撑部件的另一端与所述第二支撑部件的另一端之间的第四支撑部件。所述掩膜联接到所述掩膜框架并包括第一沉积区域、在所述第一方向上与所述第一沉积区域相邻的第二沉积区域和在所述第二方向上与所述第一沉积区域相邻的第三沉积区域。
所述第一沉积区域和所述第三沉积区域中的每个在所述第一方向上具有比参考宽度大的第一宽度并且在所述第二方向上具有比所述第一宽度小的第二宽度。所述第二沉积区域在所述第一方向上具有比所述第一宽度小的第三宽度并且在所述第二方向上具有比所述参考宽度大的第四宽度。
在一实施例中,所述掩膜可进一步包括在所述第二方向上与所述第二沉积区域相邻的第四沉积区域以及在所述第二方向上与所述第三沉积区域相邻并在所述第一方向上与所述第四沉积区域相邻的第五沉积区域。在一实施例中,所述第四沉积区域可在所述第一方向上具有所述第三宽度且在所述第二方向上具有所述第四宽度。在一实施例中,所述第五沉积区域可在所述第一方向上具有所述第一宽度且在所述第二方向上具有所述第二宽度。
在一实施例中,所述掩膜组件进一步可包括:在所述第二方向上延伸并联接在所述第一支撑部件与所述第二支撑部件之间的第一延伸部件,所述第一延伸部件与所述第三支撑部件间隔开所述第一宽度;以及在所述第一方向上延伸并联接在所述第三支撑部件与所述第一延伸部件之间的第二延伸部件,所述第二延伸部件与所述第一支撑部件间隔开所述第二宽度。
在一实施例中,所述第一延伸部件可具有第一厚度,并且所述第二延伸部件可具有第二厚度,其中所述第一厚度可比所述第二厚度大。
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