[发明专利]一种球面光学透镜高速抛光工艺参数设计方法有效
申请号: | 201911171801.3 | 申请日: | 2019-11-26 |
公开(公告)号: | CN110990968B | 公开(公告)日: | 2023-08-11 |
发明(设计)人: | 张昊;沈羿;杨晓强;李心原;王朝阳;张洪顺 | 申请(专利权)人: | 天津津航技术物理研究所 |
主分类号: | G06F30/17 | 分类号: | G06F30/17;B24B1/00 |
代理公司: | 中国兵器工业集团公司专利中心 11011 | 代理人: | 刘二格 |
地址: | 300308 天津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 球面 光学 透镜 高速 抛光 工艺 参数 设计 方法 | ||
1.一种球面光学透镜高速抛光工艺参数设计方法,其特征在于,高速抛光所采用的平摆式高速抛光机包括:铁笔、夹具和抛光盘,铁笔上端连接摆动转动轴,铁笔下端连接夹具,夹具上安装待加工零件;抛光工艺参数设计方法包括如下步骤:
步骤一、将备选工艺参数列表,排列组合,形成多个备选方案;
步骤二、根据所加工表面半径和备选方案一的摆频,计算铁笔摆动在抛光表面产生的线速度;
步骤三、根据备选方案一主轴转速和零件口径,计算零件转动在抛光表面产生的线速度;
步骤四、根据备选方案一主轴转速、铁笔初始摆角和摆幅、零件口径和半径、抛光盘口径,计算抛光盘转动在抛光表面产生的线速度;
步骤五、根据上述结果,计算零件抛光表面相对速度分布的均方根值RMS;
步骤六、重复步骤一至步骤五,计算各备选方案零件抛光表面相对速度分布的均方根值RMS;
步骤七、选取最小RMS值的备选方案作为最终工艺参数;
所述步骤二中,所加工表面半径R和备选方案一摆频f,铁笔摆动在抛光表面产生的线速度vA为:
vA=2πfR
所述步骤三中,备选方案一主轴转速ωP和零件口径d,零件转动在抛光表面产生的线速度分布vL:
vL=ωP×r r=0:step:d/2 step为计算步长
所述步骤四中,备选方案一主轴转速ωP、铁笔初始摆角θ0和摆幅ψ、零件口径d和半径R、抛光盘口径D,抛光盘转动在抛光表面产生的线速度分布vP为:
其中,θ=θ0:step:(θ0+ψ),α为零件球面与抛光盘球面的球心角之差,δ为角度自变量;
所述步骤五中,零件抛光表面相对速度分布的均方根值RMS为:
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