[发明专利]微纳米材料镀膜设备

说明书

本发明提供一种微纳米材料镀膜设备，包括：电机A、T型滑块和弹簧；所述电机A通过联轴器A固定连接有一块所述承载盘，且承载盘顶端面呈环形阵列状共开设有六处所述圆形安装通孔；所述承载盘顶端面相邻边缘部位呈环形阵列状共开设有六处所述限位通孔，且六处所述限位通孔与六处所述圆形安装通孔之间呈间隔状分布。本发明所设计的微纳米材料镀膜设备适用于微纳米材料等管状工件使用，可实现对微纳米材料等管状工件进行全方位、均匀且高效率的外周面镀膜操作，以补缺现因没有专适用于管状工件镀膜的设备而导致对管状工件镀膜操作比较复杂繁琐、效率低的不足。

技术领域

本发明属于材料表面镀膜技术领域，更具体地说，特别涉及微纳米材料镀膜设备。

背景技术

目前对于物品进行表面处理的设备，主要包括了真空镀膜、电镀、光镀、打磨等，这些镀膜技术是目前城市中使用的比较多物品处理方式。而其中产生的磁控溅射镀膜机对于物品的镀膜来说是主流的一类，利用这种机械对物件进行表面处理，能够让物品的表面具有比较完整的膜层，防止外界因素对其的影响。磁控溅射工艺是一种新型的物理气相沉积方法，镀层介质在真空系统中通过溅射的工艺沉积于粉体表面，形成镀层，中间过程无废液或废气产生，是一种安全环保的生产工艺。

例如申请号：201710098451.7公开一种磁控溅射镀膜装置，其用于在真空腔室中对板状工件进行双面镀膜，其包括一个可旋转的承载盘，所述承载盘沿周向均布有多个轴线在同一圆周上的可旋转连接的工件架，所述工件架在所述承载盘下方设置有自转齿轮，所述承载盘下方还设置有可升降的调整齿条。本发明所提供的一种磁控溅射镀膜装置，可在不打开真空腔室的情况下完成对板状工件的双面镀膜，从而节约了抽真空和在真空腔室中加热的时间，大大提升了生产效率。

在对管状工件进行磁控溅射镀膜生产时，有很多情况下是要在真空腔室中对管状工件的外周面进行镀膜，但现没有专适用于管状工件镀膜的设备，从而导致对管状工件镀膜操作比较复杂繁琐、效率低的不足。

于是，针对现有的结构及缺失予以研究改良，提供了一种微纳米材料镀膜设备，以期达到更具有更加实用价值性的目的。

发明内容

(一)解决的技术问题

本发明提供微纳米材料镀膜设备，以解决现没有专适用于管状工件镀膜的设备，从而导致对管状工件镀膜操作比较复杂繁琐、效率低的不足的问题。

(二)技术方案

本发明微纳米材料镀膜设备的目的与功效，由以下具体技术手段所达成：

微纳米材料镀膜设备，包括电机A、联轴器A、承载盘、限位通孔、圆形安装通孔、工件架、环形圈、环形槽、限位柱、环形弧形限位滑槽、电机B、联轴器B、轴承、主动齿轮、环形齿条、滚珠、圆形块、方形凸起、T型滑槽、连接轴、从动齿轮、内夹持块、弧形面结构、橡胶隔离层、T型滑块和弹簧；

所述电机A通过联轴器A固定连接有一块所述承载盘，且承载盘顶端面呈环形阵列状共开设有六处所述圆形安装通孔；六处所述圆形安装通孔内端均通过一个所述轴承各转动连接有一组所述工件架，且工件架经由圆形块、从动齿轮、内夹持块和弹簧组成；所述圆形块内嵌安装在轴承内圈，且圆形块底端面轴心部位焊接有一根所述连接轴；所述连接轴底端键连接有一个所述从动齿轮；所述圆形块顶端面轴心部位设置有一块所述方形凸起，且圆形块外周面相对于方形凸起前端面和后端面部位均开设有一处与其处于同一水平的T型滑槽；所述方形凸起前侧方和后侧方均设置有一块所述内夹持块，且两块所述内夹持块分别与方形凸起前端面和后端面的相对面之间均通过两个所述弹簧固定相连接；两块所述内夹持块底端面均固定连接有一块所述T型滑块，且两块所述内夹持块均通过T型滑块与T型滑槽的滑动配合沿T型滑槽做前后往复运动；两块所述内夹持块与方形凸起前端面和后端面的相背面均为弧形面结构，且弧形面结构上贴附有一层所述橡胶隔离层；所述承载盘顶端面相邻边缘部位呈环形阵列状共开设有六处所述限位通孔，且六处所述限位通孔与六处所述圆形安装通孔之间呈间隔状分布。