[发明专利]一种定位晶花透光陶瓷砖及其制备方法有效
申请号: | 201911182617.9 | 申请日: | 2019-11-27 |
公开(公告)号: | CN110845227B | 公开(公告)日: | 2021-11-16 |
发明(设计)人: | 萧礼标;汪陇军;杨元东;王贤超;程科木 | 申请(专利权)人: | 蒙娜丽莎集团股份有限公司 |
主分类号: | C04B35/19 | 分类号: | C04B35/19;C04B41/89;C04B35/64 |
代理公司: | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人: | 曹芳玲;熊子君 |
地址: | 528211 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 定位 透光 陶瓷砖 及其 制备 方法 | ||
本发明公开一种定位晶花透光陶瓷砖及其制备方法。所述定位晶花透光陶瓷砖的制备方法,包括以下步骤:(1)将透光粉料压制成制透光坯体;(2)在透光坯体上喷墨打印图案;(3)布施晶核剂干粒,定位打印干粒固定剂图案,并去除多余的晶核剂干粒;(4)施晶花干粒釉,并将其固定;(5)将步骤(4)所得的坯体烧成。
技术领域
本发明涉及一种定位晶花透光陶瓷砖及其制备方法,属于陶瓷砖生产制造技术领域。
背景技术
近年来,建筑陶瓷生产技术得到了飞速的发展,各种新工艺、新配方得到不断的应用,陶瓷砖装饰效果的精细化、个性化成为陶瓷企业实现产品差异化的迫切需求。晶花釉是通过在釉中析出晶体从而在釉面形成美丽花纹效果的一类高档艺术釉,其独特的艺术装饰效果,极具观赏价值,很受市场的青睐,主要应用于日用陶瓷。
中国专利CN109264993A介绍了一种大晶花透光玉石砖,该透光玉石砖包括底料层、复合在底料层上的面料层、复合在面料层上的保护层;底料层由硬质透光底料制成;面料层为半透光大晶花层,半透光大晶花层由基础透料及乳浊料制成;保护层由透光保护熔块制成。该工艺的透光底料主要由低温熔块、高温熔块和粘土组成,其化学组成中引入大量的方解石、白云石致使钙、镁含量较高导致陶瓷墨水发色差,同时底料中的低、高温熔块及面料中透光、乳浊熔块易与陶瓷墨水中的纳米级色料反应,导致陶瓷墨水无法呈色,基于以上两点原因导致陶瓷墨水无法在该透光底料和半透光晶花层形成墨水图案层,故该发明无法将晶花效果和现代喷墨打印技术相结合。该工艺生产的釉面装饰效果单一,无法将现代陶瓷砖的色彩纹理结合定位晶花的透光效果体现出来。
发明内容
针对上述问题,本发明的目的在于提供一种定位晶花透光陶瓷砖及其制备方法。
第一方面,本发明提供一种定位晶花透光陶瓷砖的制备方法,其包括以下步骤:
(1)将透光粉料压制成制透光坯体;
(2)在透光坯体上喷墨打印图案;
(3)布施晶核剂干粒,定位打印干粒固定剂图案,并去除多余的晶核剂干粒;
(4)施晶花干粒釉,并将其固定;
(5)将步骤(4)所得的坯体烧成。
根据本发明,将晶花效果和喷墨打印技术相结合,在透光坯体上依次喷墨打印图案和定位布施晶核剂干粒所得的陶瓷砖的釉面在定位布施有晶核剂干粒的位置析出晶花,用强光照射坯体后,能充分展示定位晶花的艺术装饰效果,不仅可以展现出不同墨水颜色的明暗光亮度,更能充分展示局部有定位晶花的独特艺术美感,可作为装饰材料应用于家装领域。
较佳地,所述透光粉料的原料组成包括:以质量百分比计,水磨钾长石:10~15%、钠长石:25~35%、超白钾砂:5~20%、叶腊石:5~20%、煅烧高岭土:0~10%、超白水洗球土:5~15%、超白水洗泥:5~15%、滑石泥:1~3%,硅灰石:0~1%。
较佳地,所述透光粉料的化学组成包括:以质量百分比计,SiO2:63.0~68.0%、Al2O3:21.0~24.0%、Fe2O3:0.1~0.25%、TiO2:0~0.2%、CaO:0.7~1.0%、MgO:0.5~1.0%、K2O:2.0~3.5%、Na2O:3.0~4.0%、烧失:4.0~5.5%。
较佳地,所述透光粉料的颗粒级配为:30目上:≤0.5%,30目~60目:55~65%,60目~80目:25~35%,80目下:6~12%。
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