[发明专利]回旋加速器引出nA量级以下束流的调节装置与方法、回旋加速器

权利要求书

1.一种回旋加速器引出nA量级以下束流的调节装置，其特征在于，所述调节装置(100)装设于连接强流离子源(200)的注入线(210)中，所述调节装置(100)包括:

第一束流挡片(10)，具有第一板状阻拦部(11)以及位于所述第一板状阻拦部(11)一侧的第一冷却部(12)，所述第一板状阻拦部(11)开设有多个平行向等距排列的第一狭缝(13)，所述第一狭缝(13)之间形成为第一挡条部(14);及，

第二束流挡片(20)，具有第二板状阻拦部(21)以及位于所述第二板状阻拦部(21)一侧的第二冷却部(22)，所述第二板状阻拦部(21)开设有多个平行向等距排列的第二狭缝(23)，所述第二狭缝(23)之间形成为第二挡条部(24);

其中，所述第二束流挡片(20)紧邻且平行地配置于所述第一束流挡片(10)的束流后方，使所述第二狭缝(23)间隔地平行于所述第一狭缝(13);所述第二束流挡片(20)与所述第一束流挡片(10)之间能够相互的平行向移动，其移动方向垂直于所述第一狭缝(13)与所述第二狭缝(23)的狭缝长度方向，由束流方向(H)观测，所述第二挡条部(24)的移动是介于重合所述第一狭缝(13)的束流阻挡与重合所述第一挡条部(14)的束流放行之间，以提供nA量级以下束流的均匀化引出。

2.根据权利要求1所述的回旋加速器引出nA量级以下束流的调节装置，其特征在于，当所述第二束流挡片(20)的数量为一，并且所述第二挡条部(24)的单元宽度(24W)不小于所述第一狭缝(13)的单元宽度(13P)。

3.根据权利要求2所述的回旋加速器引出nA量级以下束流的调节装置，其特征在于，所述第一束流挡片(10)与所述第二束流挡片(20)为实质相同，包括：所述第二狭缝(23)与所述第二挡条部(24)的数量与尺寸是相同于所述第一狭缝(13)与所述第一挡条部(14)的数量与尺寸，并且所述第二挡条部(24)的单元宽度(24W)等于或略大于所述第二狭缝(23)的单元宽度(23P)。

4.根据权利要求3所述的回旋加速器引出nA量级以下束流的调节装置，其特征在于，所述第二束流挡片(20)的配置方式是与所述第一束流挡片(10)镜像对称并在所述第二狭缝(23)的平行面上旋转180度，使所述第一冷却部(12)与所述第二冷却部(22)相互错位且位于所述第一束流挡片(10)与所述第二束流挡片(20)的两组合外侧的间隙中。

5.根据权利要求1所述的回旋加速器引出nA量级以下束流的调节装置，其特征在于，当所述第二束流挡片(20,30)的数量为多个，并且所述第二挡条部(24,34)的单元宽度(24W)乘以所述第二束流挡片(20,30)的数量的和不小于所述第一狭缝(13)的单元宽度(13P)。

6.根据权利要求5所述的回旋加速器引出nA量级以下束流的调节装置，其特征在于，多个所述第二束流挡片(20,30)为实质相同，包括：每一所述第二束流挡片(20,30)的所述第二狭缝(23,33)与所述第二挡条部(24,34)的数量是相同于所述第一狭缝(13)与所述第一挡条部(14)的数量，并且所述第二挡条部(24,34)的单元宽度(24W)乘以所述第二束流挡片(20,30)的数量后再加上所述第一挡条部(14)的单元宽度的和等于或略大于所述第二狭缝(23,33)的单元宽度(23P)。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的回旋加速器引出nA量级以下束流的调节装置，其特征在于，所述第一冷却部(12)与所述第二冷却部(22,32)均具有同向于挡片移动方向的冷却通道(15,25,35);或者/以及，具有冷却通道的所述第一束流挡片(10)与所述第二束流挡片(20,30)的材料选自于紫铜与无氧铜的其中一种。

8.根据权利要求7所述的回旋加速器引出nA量级以下束流的调节装置，其特征在于，还包括用于驱动所述第一束流挡片(10)与所述第二束流挡片(20)相互错位移动以开关束流的步进马达(40)、用于读取束流挡片相对位置的模拟量电位器(50)。