[发明专利]适用于高原冻土的气膜基础结构及其施工方法有效
申请号: | 201911185457.3 | 申请日: | 2019-11-27 |
公开(公告)号: | CN110847208B | 公开(公告)日: | 2022-05-17 |
发明(设计)人: | 谭宁;孙伟 | 申请(专利权)人: | 北京约顿气膜建筑技术股份有限公司 |
主分类号: | E02D27/35 | 分类号: | E02D27/35;E02D31/14;E04B1/34 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 刘娜 |
地址: | 100125 北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 适用于 高原 冻土 基础 结构 及其 施工 方法 | ||
本发明提供了一种适用于高原冻土的气膜基础结构及其施工方法。气膜基础结构包括气膜本体和气膜基础,气膜本体与地面之间围成气膜腔体,气膜本体安装在气膜基础上,气膜基础包括:基础本体,基础本体的至少一部分埋设在地面的下方;齿结构,齿结构设置在基础本体的侧立面上,以增加气膜基础与地层之间的抗拔性能。本发明解决了现有技术中气膜结构存在保护冻土层和满足上拔力不能兼顾的问题。
技术领域
本发明涉及气膜建筑设备技术领域,具体而言,涉及一种适用于高原冻土的气膜基础结构及其施工方法。
背景技术
气膜建筑属于气承式建筑,整个气膜建筑对基础施加的不是下压力,而是上拔力,常见的气膜基础都是采用钢筋混凝土的形式,其基础约有1.0至1.5米埋在地下,约有0.3至0.6米在地面以上,才能满足气膜建筑的上拔力和水平力。但是在高原地区冻土层较浅,在埋设基础时,埋设过深时极易破坏冻土层,埋设过浅时不能满足气膜建筑的上拔力和水平力。
也就是说,现有技术中气膜结构存在保护冻土层和满足上拔力不能兼顾的问题。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种适用于高原冻土的气膜基础结构及其施工方法,以解决现有技术中气膜结构存在保护冻土层和满足上拔力不能兼顾的问题。
为了实现上述目的,根据本发明的一个方面,提供了一种适用于高原冻土的气膜基础结构,包括气膜本体和气膜基础,气膜本体与地面之间围成气膜腔体,气膜本体安装在气膜基础上,气膜基础包括:基础本体,基础本体的至少一部分埋设在地面的下方;齿结构,齿结构设置在基础本体的侧立面上,以增加气膜基础与地层之间的抗拔性能。
进一步地,齿结构为多个,多个齿结构向不同的方向伸出;至少一个齿结构由基础本体倾斜向上伸出;和/或至少另一个齿结构水平伸出;和/或基础本体的侧立面是齿状表面以形成齿结构。
进一步地,齿结构为多个,基础本体的不同高度处分别设置有齿结构。
进一步地,气膜基础结构还包括第一保温层,第一保温层至少敷设在地层的地基的底面上,以将基础本体的底面与地基隔离。
进一步地,第一保温层的厚度大于等于5厘米。
进一步地,基础本体是现场浇筑而成的,齿结构是预制的,且在浇筑基础本体时将齿结构安装到基础本体上;或者基础本体是预制的,基础本体预留有浇筑槽,齿结构的至少一部分浇筑形成在浇筑槽处。
进一步地,齿结构是金属材质的。
进一步地,气膜基础埋设入地面内的深度小于冻土层的深度。
进一步地,气膜基础结构还包括第二保温层,第二保温层铺设在地面上。
根据本发明的另一方面,提供了一种适用于高原冻土的气膜基础结构的施工方法,适用于高原冻土的气膜基础结构是上述的气膜基础结构,适用于高原冻土的气膜基础结构的施工方法包括:挖地基;现场浇注气膜基础结构的气膜基础的基础本体;将预制的气膜基础的齿结构安装至基础本体上;将组装完成后的气膜基础放置在地基内;在地基上安装气膜本体;对气膜基础结构的气膜腔体充气。
应用本发明的技术方案,适用于高原冻土的气膜基础结构包括气膜本体和气膜基础,气膜本体与地面之间围成气膜腔体,气膜本体安装在气膜基础上,气膜基础包括基础本体和齿结构,基础本体的至少一部分埋设在地面的下方;齿结构设置在基础本体的侧立面上,以增加气膜基础与地层之间的抗拔性能。
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