[发明专利]玻璃壳体及其制造方法、电子设备

权利要求书

1.一种玻璃壳体，其特征在于，所述玻璃壳体包括：

玻璃基板；

至少一个第一膜片，贴合于所述玻璃基板的表面，所述第一膜片包括依次贴合的第一透明基体、第一纹理层、第一光学膜层，所述第一膜片的所述第一透明基体相对于所述第一光学膜层靠近所述玻璃基板；及

第二膜片，贴合于所述至少一个第一膜片距离所述玻璃基板最远的表面，所述第二膜片包括依次贴合的第二透明基体、第二纹理层、第二光学膜层及遮盖层，所述第二透明基体相对于所述遮盖层靠近所述玻璃基板；

所述第一纹理层的结构与所述第二纹理层的结构不同；

所述第一膜片的数目为至少两个，所述第一膜片包括相互贴合的内层第一膜片和外层第一膜片，所述内层第一膜片位于所述玻璃基板与所述外层第一膜片之间，所述外层第一膜片位于所述内层第一膜片与所述第二膜片之间；所述内层第一膜片的第一纹理层的结构与所述外层第一膜片的第一纹理层的结构不同。

2.根据权利要求1所述的玻璃壳体，其特征在于，所述第一光学膜层的颜色与所述第二光学膜层的颜色相同或不同。

3.根据权利要求1所述的玻璃壳体，其特征在于，所述内层第一膜片的第一光学膜层的颜色与所述外层第一膜片的第一光学膜层的颜色不同。

4.根据权利要求1所述的玻璃壳体，其特征在于，所述内层第一膜片与所述外层第一膜片之间通过光学胶层贴合粘结。

5.根据权利要求1所述的玻璃壳体，其特征在于，所述第一膜片通过光学胶层粘结于所述玻璃基板，所述光学胶层的厚度范围为20-25微米；和/或，

所述第二膜片通过光学胶层粘结于所述第一膜片，所述光学胶层的厚度范围为20-25微米；和/或，

所述第一透明基体的厚度范围为45-55微米；和/或，

所述第一纹理层的厚度范围为8-12微米；和/或，

所述第一光学膜层的厚度范围为140-600纳米；和/或，

所述第二透明基体的厚度范围为45-55微米；和/或，

所述第二纹理层的厚度范围为8-12微米；和/或，

所述第二光学膜层的厚度范围为140-600纳米；和/或，

所述遮盖层的厚度范围为10-15微米；和/或，

所述玻璃基板包括贴合于表面的增亮膜层，所述增亮膜层的厚度范围为110-400纳米。

6.一种玻璃壳体的制造方法，其特征在于，所述制造方法用于权利要求1-5任一项所述的玻璃壳体，所述制造方法包括：

获得玻璃基板、至少一个第一膜片、及第二膜片；

将所述至少一个第一膜片贴合于所述玻璃基板的表面，所述第一膜片包括依次贴合的第一透明基体、第一纹理层、第一光学膜层，所述第一膜片的所述第一透明基体相对于所述第一光学膜层靠近所述玻璃基板；

将所述第二膜片贴合于所述至少一个第一膜片距离所述玻璃基板最远的表面，所述第二膜片包括依次贴合的第二透明基体、第二纹理层、第二光学膜层及遮盖层，所述第二透明基体相对于所述遮盖层靠近所述玻璃基板，所述第一纹理层的结构与所述第二纹理层的结构不同；

所述第一膜片的数目为至少两个，所述第一膜片包括相互贴合的内层第一膜片和外层第一膜片，所述内层第一膜片位于所述玻璃基板与所述外层第一膜片之间，所述外层第一膜片位于所述内层第一膜片与所述第二膜片之间；所述内层第一膜片的第一纹理层的结构与所述外层第一膜片的第一纹理层的结构不同。

7.根据权利要求6所述的制造方法，其特征在于，所述获得至少一个第一膜片，包括：

获得所述第一透明基体；

采用UV转印工艺在所述第一透明基体的表面形成所述第一纹理层；

采用电镀工艺在所述第一纹理层的表面形成所述第一光学膜层，得到所述第一膜片。