[发明专利]一种具有非对称限制层的VCSEL及其制作方法在审
申请号: | 201911187963.6 | 申请日: | 2019-11-28 |
公开(公告)号: | CN110854677A | 公开(公告)日: | 2020-02-28 |
发明(设计)人: | 田宇;杜石磊;韩效亚;李峰柱;吴真龙 | 申请(专利权)人: | 厦门乾照半导体科技有限公司 |
主分类号: | H01S5/183 | 分类号: | H01S5/183;H01S5/323 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 361001 福建省厦门市*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 对称 限制 vcsel 及其 制作方法 | ||
本发明提供一种具有非对称限制层的VCSEL及其制作方法,VCSEL包括衬底,以及自下而上依次层叠于所述衬底上的N型DBR层、N型限制层、有源区、P型限制层、氧化层和P型DBR层;所述N型限制层包括多层自下而上依次设置的第一AlGaAs层,所述P型限制层包括多层自下而上依次设置的第二AlGaAs层;多层所述第一AlGaAs层的Al组分随厚度升高呈波动的阶梯分布,多层所述第二AlGaAs层的Al组分随厚度升高呈波动的阶梯分布,所述N型限制层与所述P型限制层互为非对称结构。电子和空穴被有效限制在有源区,辐射复合高;并且能够改变光场分布,降低光吸收和光散射,提高增益。
技术领域
本发明涉及激光器技术领域,尤其涉及一种具有非对称限制层的VCSEL及其制作方法。
背景技术
VCSEL,全名为垂直腔面发射激光器(Vertical Cavity Surface EmittingLaser),以砷化镓半导体材料为基础研制,有别于LED(发光二极管)和LD(Laser Diode,激光二极管)等其他光源,具有体积小、圆形输出光斑、单纵模输出、阈值电流小、价格低廉、易集成为大面积阵列等优点,广泛应用于光通信、光互连、光存储等领域。
VCSEL通常由衬底、N型DBR层、限制层、波导层、MQW、波导层、限制层、氧化层和P型DBR层依次层叠组成。现有的VCSEL结构中,限制层均采用单一结构,波导层有渐变波导层和对称波导层。单一限制层的电子限制能力有限,很难将电子进行有效的扩散,且空穴难以进入有源区,辐射复合低。渐变波导层难以控制光场分布,而对称波导层,由于光场偏向于P型,C掺杂在一定程度上对光形成杂质吸收以及杂质散射。
发明内容
有鉴于此,本发明的目的为:提供一种具有非对称限制层的VCSEL及其制作方法,能够有效增加辐射复合,改变光场分布,降低光吸收和光散射,提高输出功率。
本发明采用的技术方案为:
一种具有非对称限制层的VCSEL,包括衬底,以及自下而上依次层叠于所述衬底上的N型DBR层、N型限制层、有源区、P型限制层、氧化层和P型DBR层;
所述N型限制层包括多层自下而上依次设置的第一AlGaAs层,所述P型限制层包括多层自下而上依次设置的第二AlGaAs层;
多层所述第一AlGaAs层的Al组分随厚度升高呈波动的阶梯分布,多层所述第二AlGaAs层的Al组分随厚度升高呈波动的阶梯分布,所述N型限制层与所述P型限制层互为非对称结构。
可选的,所述第一AlGaAs层的层数与所述第二AlGaAs的层数相同,多层所述第二AlGaAs层的Al组分随厚度升高的分布趋势与所述第一AlGaAs层的Al组分的分布趋势对称,各层所述第一AlGaAs层的Al组分分别高于阶梯分布中对应同一阶层的第二AlGaAs层的Al组分。
可选的,多层所述第一AlGaAs层的Al组分随厚度升高呈高低交替的阶梯分布。
可选的,多层所述第一AlGaAs层的Al组分随厚度升高呈低高交替的阶梯分布。
可选的,多层所述第一AlGaAs层的Al组分随厚度升高呈波动下降的阶梯分布。
可选的,多层所述第一AlGaAs层的Al组分随厚度升高呈波动上升的阶梯分布。
可选的,第一AlGaAs层和第二AlGaAs层的层数分别为两层。
可选的,第一AlGaAs层和第二AlGaAs层的层数分别为6层,6层第一AlGaAs层自下而上的Al组分范围分别是:0.75-0.85、0.3-0.6、0.65-0.75、0.2-0.6、0.55-0.65和0.1-0.6,6层第二AlGaAs自下而上的Al组分范围分别是:0.1-0.6、0.55-0.65、0.2-0.6、0.65-0.75、0.3-0.6和0.75-0.85。
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