[发明专利]二氧化硅镭射转移膜、二氧化硅镭射转移纸及其制备方法

权利要求书

1.一种二氧化硅镭射转移膜，其特征在于，包括从上至下依次层叠设置的可剥离的基膜、局部离型信息层以及与待转移介质复合的二氧化硅层。

2.一种二氧化硅镭射转移纸，其特征在于，包括从下至上依次层叠设置的纸张、胶水层、二氧化硅层以及局部离型信息层。

3.根据权利要求2所述的二氧化硅镭射转移纸，其特征在于，所述二氧化硅层的厚度为50-100nm。

4.一种二氧化硅镭射转移纸的制备方法，其特征在于，包括步骤：

提供一种基膜，在所述基膜表面制备局部离型涂层；

通过镭射模压机在所述局部离型涂层上压制镭射图案，制得局部离型信息层；

在具有局部离型信息层的基膜上蒸镀二氧化硅层，制得二氧化硅镭射转移膜；

在所述二氧化硅层表面涂覆胶水层并与纸张复合，剥离所述基膜，制得所述二氧化硅镭射转移纸。

5.根据权利要求4所述二氧化硅镭射转移纸的制备方法，其特征在于，所述基膜材料为双向拉伸聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二酯或聚乙烯中的一种。

6.根据权利要求4所述二氧化硅镭射转移纸的制备方法，其特征在于，所述局部离型涂层按重量份计包括25-35份的纤维素树脂、20-30份的丙烯酸树脂、20-25份的乙酯、20-25份的丁酮以及1-5份的微晶蜡。

7.根据权利要求4所述二氧化硅镭射转移纸的制备方法，其特征在于，所述在所述基膜表面制备局部离型涂层的步骤包括：

在湿度为60％，温度为25℃的条件下，采用凹版印刷涂布辊以160m/min的涂布速度在所述基膜表面制备局部离型涂层。

8.根据权利要求4所述二氧化硅镭射转移纸的制备方法，其特征在于，所述通过镭射模压机在所述局部离型涂层上压制镭射图案，制得局部离型信息层的步骤包括：

通过喷银处理以及电铸制版工艺制作镭射模压工作版；

将镭射模压工作版的胶辊加热至150-200℃，通过所述镭射模压机调整所述胶辊的压力为25-35kg/cm²，在所述局部离型涂层上压制镭射图案制得局部离型信息层。

9.根据权利要求4所述二氧化硅镭射转移纸的制备方法，其特征在于，所述在具有局部离型信息层的基膜上蒸镀二氧化硅层的步骤之前还包括：

以2-5W的电晕功率对所述局部离型信息层进行电晕处理。

10.根据权利要求4所述二氧化硅镭射转移纸的制备方法，其特征在于，所述在具有局部离型信息层的基膜上蒸镀二氧化硅层的步骤包括：

在10^-2-10^-3Pa的真空条件下，采用高频感应加热二氧化硅粉末至1300℃以上；

抽掉工作腔挡板使二氧化硅蒸气在所述局部离型信息层上形成二氧化硅层。