[发明专利]一种基于多层石墨烯为牺牲层的聚酰亚胺薄膜剥离方法有效
申请号: | 201911190250.5 | 申请日: | 2019-11-28 |
公开(公告)号: | CN110867533B | 公开(公告)日: | 2021-05-18 |
发明(设计)人: | 屠国力;刘相富;马金明;王荣文 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;C08J5/18;C08L79/08 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 彭翠;李智 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 多层 石墨 牺牲 聚酰亚胺 薄膜 剥离 方法 | ||
1.一种基于多层石墨烯为牺牲层的聚酰亚胺薄膜剥离方法,其特征在于,在基板与聚酰亚胺薄膜之间设置多层石墨烯薄膜,得到基板/多层石墨烯薄膜/聚酰亚胺薄膜叠层,以石墨烯薄膜为牺牲层,通过外力破坏石墨烯薄膜层与层之间的范德华力,将聚酰亚胺薄膜从基板上剥离,以确保聚酰亚胺薄膜的完整性;
该剥离方法包括如下步骤:
(1)将分散于溶剂中的石墨烯分散液涂覆在基板上,干燥后得到位于基板上的多层石墨烯薄膜;
(2)在步骤(1)获得的多层石墨烯薄膜表面涂覆聚酰胺酸湿膜,然后进行退火程序,将聚酰胺酸湿膜转化为聚酰亚胺薄膜,如此在基底上依次获得多层石墨烯薄膜和聚酰亚胺薄膜,得到基板/多层石墨烯薄膜/聚酰亚胺薄膜叠层;
(3)在步骤(2)获得的聚酰亚胺薄膜表面完成器件的制备后,将基板/多层石墨烯薄膜/聚酰亚胺薄膜叠层浸泡在溶液中,利用液体的渗透扩散作用破坏所述石墨烯薄膜层与层之间的范德华力,使聚酰亚胺薄膜从基板上自由脱落从而实现剥离;
并且,步骤(1)所述分散于溶剂中的石墨烯分散液按照如下方法制备得到:将石墨烯与溶剂混合,超声分散不超过2小时,搅拌一次,重复上述分散步骤多次,采用溶剂超声分散的目的在于使石墨烯粉末充分分散,得到所述石墨烯分散液。
2.如权利要求1所述的剥离方法,其特征在于,在基板上沉积多层石墨烯薄膜,所述多层石墨烯薄膜的厚度为50-150nm。
3.如权利要求1所述的剥离方法,其特征在于,步骤(1)所述涂覆为旋涂法或流延法;步骤(2)所述涂覆为旋涂法或刮涂法。
4.如权利要求3所述的剥离 方法,其特征在于,步骤(1)所述涂覆为旋涂,所述旋涂转速为1000-1500转每分钟,旋涂时间为10s-20s。
5.如权利要求3所述的剥离方法,其特征在于,步骤(2)所述涂覆为旋涂,所述旋涂转速为800-1200转每分钟,旋涂时间为10-50s。
6.如权利要求4所述的剥离方法,其特征在于,步骤(2)所述退火程序具体为:先升至70-80℃,保温30-120分钟;然后开始程序升温,所述程序升温包括若干个升温阶段,每个升温阶段包括升温子阶段和恒温子阶段,任一个所述升温阶段的升温子阶段和恒温子阶段的总时间为20-40分钟;直至最后升至260-350℃,在该温度下脱水成环,完成热亚胺化过程,从而获得透明聚酰亚胺薄膜。
7.如权利要求1所述的剥离方法,其特征在于,将基板/多层石墨烯薄膜/聚酰亚胺薄膜叠层浸泡在溶液中,并进行超声处理,利用超声促进液体的渗透扩散,破坏所述石墨烯薄膜层与层之间的范德华力,将聚酰亚胺薄膜从基板上剥离。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学,未经华中科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911190250.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择