[发明专利]高电压集成电路及其半导体结构有效
申请号: | 201911197731.9 | 申请日: | 2019-11-29 |
公开(公告)号: | CN112448711B | 公开(公告)日: | 2023-09-08 |
发明(设计)人: | 韦维克;陈柏安;张育麒 | 申请(专利权)人: | 新唐科技股份有限公司 |
主分类号: | H03K19/0175 | 分类号: | H03K19/0175;H01L27/092 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 周晓飞;许曼 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电压 集成电路 及其 半导体 结构 | ||
1.一种高电压集成电路的半导体结构,其特征在于,包括:
一衬底,有依序相邻的高电压N型井区、N型井区及高电压P型井区;
P型掺杂隔离区域,位于该N型井区将该N型井区隔离出第一井区与第二井区,该第二井区与该高电压N型井区相邻;
高电压P型晶体管,设置在该高电压N型井区上,该高电压P型晶体管有栅极、漏极以及源极,该源极接收一操作高电压;
N型晶体管,有一栅极形成在该N型井区及该高电压P型井区的交界区域上; 一漏极形成在该N型井区的该第一井区上与该高电压P型晶体管的该漏极连接;以及一源极形成在该高电压P型井区上;
电压箝制元件,有两端分别仅并联连接于该高电压P型晶体管的该漏极与该源极,没有与该高电压P型晶体管的该栅极连接;以及
分压元件,连接在该高电压P型晶体管的该漏极到接地电压之间,提供一分压给该N型晶体管的该栅极。
2.如权利要求1所述的高电压集成电路的半导体结构,其特征在于,该电压箝制元件是齐纳二极管串,用以当该高电压P型晶体管关闭时,将该高电压P型晶体管的该源极的一高电压箝制到较低的一箝制电压而给该漏极。
3.如权利要求1所述的高电压集成电路的半导体结构,其特征在于,该分压元件所提供的该分压是在对应该N型晶体管的操作所允许的操作范围内,该N型晶体管是栅极操作在低电压的晶体管。
4.如权利要求1所述的高电压集成电路的半导体结构,其特征在于,更包括一高电压应用电路,其中该电压应用电路包含一高电压驱动电路,该高电压驱动电路有第一电压端与第二电压端,该第一电压端是该高电压P型晶体管的该操作高电压,该第一电压端的电压高于该第二电压端的电压,该第一电压端连接到该高电压P型晶体管的该源极,该第二电压端连接到该高电压P型晶体管的该栅极。
5.如权利要求4所述的高电压集成电路的半导体结构,其特征在于,取决于该高电压P型晶体管的导通或关闭,而产生不同电压值的该分压给该N型晶体管的该栅极。
6.如权利要求1所述的高电压集成电路的半导体结构,其特征在于,更包括一侦测电路,接收该N型晶体管的该源极的电压,以决定是处于第一电压状态或是第二电压状态,该第一电压状态不同于该第二电压状态。
7.如权利要求1所述的高电压集成电路的半导体结构,其特征在于,该衬底是硅晶片且该高电压N型井区、该N型井区及该高电压P型井区是在该硅晶片中,或是该衬底包含硅晶片及在该硅晶片上的外延层,其中该衬底是硅晶片且该高电压N型井区、该N型井区及该高电压P型井区是在该外延层中。
8.一种高电压集成电路,其特征在于,包括:
高电压应用电路,其中该电压应用电路包含一高电压驱动电路,该高电压驱动电路有第一电压端与第二电压端,该第一电压端是该高电压P型晶体管的操作高电压,该第一电压端的电压高于该第二电压端的电压;
高电压P型晶体管,有栅极、漏极以及源极,该源极连接到该高电压应用电路的该第一电压端,该栅极连接到该高电压应用电路的该第二电压端;
N型晶体管,有一栅极、一漏极以及一源极,其中该源极是输出端,该漏极连接到该高电压P型晶体管的该漏极;
电压箝制电路,有两端分别仅并联连接于该高电压P型晶体管的该漏极与该源极,没有与该高电压P型晶体管的该栅极连接; 以及
分压电路,连接在该高电压P型晶体管的该漏极到接地电压之间,提供一分压给该N型晶体管的该栅极。
9.如权利要求8所述的高电压集成电路,其特征在于,该电压箝制电路是齐纳二极管串,用以当该高电压P型晶体管关闭时,将该高电压P型晶体管的该源极的该操作高电压箝制到较低的一箝制电压而给该N型晶体管的该漏极。
10.如权利要求8所述的高电压集成电路,其特征在于,该分压电路所提供的该分压是在对应该N型晶体管的操作所允许的操作范围内,该N型晶体管是栅极操作在低电压的晶体管。
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