[发明专利]样本分析装置和样本分析方法

说明书

本发明提供一种样本分析装置和样本分析方法。本发明针对数个测定项目进行样本分析的样本分析装置具备：测定部，连续进行样本测定，并进行精度管理测定，其中，样本测定对混合样本和与测定项目相应的试剂而制备的测定试样进行测定，精度管理测定对混合精度管理物质和与测定项目相应的试剂而制备的测定试样进行测定；控制部，从包括从第1精度管理、第2精度管理和第3精度管理选择的至少两种精度管理在内的精度管理群按每项测定项目设定精度管理，并根据设定的精度管理控制测定部，其中，第1精度管理在一定时刻执行精度管理测定，第2精度管理在样本测定每进行一定测定次数时执行精度管理测定，第3精度管理每隔一定时间间隔执行精度管理测定。

技术领域

本发明涉及样本分析装置和样本分析方法。

背景技术

已知通过对成分已知的精度管理物质混合试剂而制备的测定试样进行测定，由此管理试剂的精度的样本分析装置。专利文献1记载了如下方法：在试剂容器的试剂剩余量变少时对新的试剂容器的试剂执行的精度管理方法，和对使用中的试剂容器的试剂以固定时间间隔执行的精度管理方法。

现有技术文献

专利文献

专利文献1 日本专利特开2010-190641号。

发明内容

发明要解决的技术问题

在上述样本分析装置中，在精度管理测定中，除了交换试剂容器的时间点，其余都限定为以固定时间间隔进行，无法灵活设定执行精度管理测定的频率。但是，在使用样本分析装置进行样本分析的设施等中，根据样本测定的执行频率、试剂信息等以恰当的频率执行精度管理测定备受期待。

解决技术问题的技术手段

本发明第1技术方案涉及针对数个测定项目进行样本分析的样本分析装置。本技术方案涉及的样本分析装置（30）包括：测定部（32），连续进行样本测定，并进行精度管理测定，其中，样本测定对混合样本和与测定项目相应的试剂而制备的测定试样进行测定，精度管理测定对混合精度管理物质和与测定项目相应的试剂而制备的测定试样进行测定；控制部（331），从包括从第1精度管理、第2精度管理和第3精度管理选择的至少两种精度管理在内的精度管理群按每项测定项目设定精度管理，并根据设定的精度管理控制测定部（32），其中，第1精度管理在一定时刻执行精度管理测定，第2精度管理在样本测定每进行一定测定次数时执行精度管理测定，第3精度管理每隔一定时间间隔执行精度管理测定。

根据本技术方案涉及的样本分析装置，能从执行精度管理测定的频率不同的数个精度管理设定至少1个精度管理。像这样，能从包括数个精度管理在内的精度管理群设定精度管理的话，就能根据样本测定的执行频率、试剂信息等以恰当的频率执行精度管理测定。设定第1精度管理的话，比如能在试剂的稳定性高时抑制不需要的精度管理测定执行。设定第2精度管理的话，比如能在样本测定的执行频率为高频率时切实执行精度管理测定。设定第3精度管理的话，比如能在样本测定的执行频率为低频率时抑制不需要的精度管理测定执行。

在本技术方案涉及的样本分析装置（30）中，可设计为：控制部（331）受理测定项目，并设定受理的测定项目的精度管理。这样一来，能按每项测定项目设定恰当的精度管理。

在本技术方案涉及的样本分析装置（30）中，可设计为：在设定了第1精度管理、第2精度管理和第3精度管理时，测定部（32）将精度管理物质和现在使用的试剂容器（21）中收纳的试剂混合来制备测定试样，并进行精度管理测定。