[发明专利]一种散射膜及电子设备在审
申请号: | 201911199864.X | 申请日: | 2019-11-29 |
公开(公告)号: | CN112886265A | 公开(公告)日: | 2021-06-01 |
发明(设计)人: | 苏陟;高强 | 申请(专利权)人: | 广州方邦电子股份有限公司 |
主分类号: | H01Q15/02 | 分类号: | H01Q15/02;H01Q15/14;H01Q19/06;H01Q19/10 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
地址: | 510663 广东省广州市高*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 散射 电子设备 | ||
1.一种散射膜,其特征在于,包括沿堆叠方向依次堆叠的散射层、阻抗渐变层和保护层;
所述散射层设置有可供电磁波通过的散射结构,以使电磁波通过所述散射结构后向四周发散;
所述散射结构的阻抗为第一阻抗值,所述保护层的阻抗为第二阻抗值,所述阻抗渐变层沿堆叠方向上的阻抗由第一阻抗值向第二阻抗值渐变。
2.根据权利要求1所述的散射膜,其特征在于,所述阻抗渐变层包括n个子层,分别为沿堆叠方向依次堆叠的第一子层至第n子层,与所述散射层接触的第一子层的阻抗为第一阻抗值,与所述保护层接触的第n子层的阻抗为第二阻抗值,第一子层至第n子层的阻抗沿堆叠方向渐变,其中,n≥3。
3.根据权利要求2所述的散射膜,其特征在于,各所述子层由不同的基材制成,各所述基材的阻抗沿堆叠方向渐变。
4.根据权利要求2所述的散射膜,其特征在于,各所述子层由相同的基材制成,各所述子层上均开设有多个贯穿所述子层的第一通孔,同一所述子层上的所述第一通孔的体积相同,不同所述子层上的所述第一通孔的体积不同,和/或数量不同,以使第一子层至第n子层的阻抗沿堆叠方向渐变。
5.根据权利要求4所述的散射膜,其特征在于,每一所述子层上的所述第一通孔之间的体积相同,不同所述子层上的所述第一通孔的数量沿堆叠方向依次减少。
6.根据权利要求4所述的散射膜,其特征在于,各所述子层上开设的所述第一通孔的数量均相等,同一所述子层上各所述第一通孔的体积相同,不同所述子层上的所述第一通孔的体积沿堆叠方向依次减小。
7.根据权利要求2所述的散射膜,其特征在于,各子层由相同的基材制成,各子层上开设有贯穿子层的第一通孔,各所述第一通孔的体积相同,各子层上开设的所述第一通孔的数量相等;
所述第一通孔内填充有第一介质材料,同一子层上各所述第一通孔内填充的第一介质材料的介电常数相同,不同子层上各所述第一通孔内填充的第一介质材料的介电常数沿堆叠方向依次增大。
8.根据权利要求1-7任一所述的散射膜,其特征在于,所述散射层上开设有多个贯穿所述散射层的第二通孔,所述第二通孔可供电磁波通过,所述第二通孔内填充有第二介质材料,所述第二通孔的孔径小于所述电磁波的波长。
9.根据权利要求8所述的散射膜,其特征在于,在至少一个预设方向上所述第二通孔的数量和/或孔径呈连续变化的趋势,所述预设方向为所述散射层表面内的任意方向。
10.根据权利要求1-7任一所述的散射膜,其特征在于,所述散射层上开设有多个贯穿所述散射层的第二通孔,所述第二通孔内填充有第二介质材料,在至少一个预设方向上,所述第二介质材料对入射的电磁波的折射率呈现中间小、两边大的变化趋势,所述预设方向为所述散射层表面内的任意方向。
11.根据权利要求1所述的散射膜,其特征在于,还包括第一凸起结构,所述第一凸起结构设置于所述阻抗渐变层上远离所述散射层的一侧,所述第一凸起结构伸入所述保护层,当电磁波经过所述第一凸起结构时发生反射。
12.根据权利要求11所述的散射膜,其特征在于,所述第一凸起结构包括多个凸部,相邻所述凸部的距离小于所述电磁波的波长。
13.根据权利要求1所述的散射膜,其特征在于,还包括连接层,所述连接层设置于所述散射层上远离所述阻抗渐变层的一侧。
14.根据权利要求13所述的散射膜,其特征在于,还包括第二凸起结构,所述第二凸起结构设置于所述散射层上远离所述阻抗渐变层的一侧,所述第二凸起结构伸入所述连接层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广州方邦电子股份有限公司,未经广州方邦电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911199864.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:电磁散射膜
- 下一篇:一种基于Cpk的炼油化工装置操控平稳性检验方法