[发明专利]包括电烹饪设备和排空底座的烹饪组件在审
申请号: | 201911200353.5 | 申请日: | 2019-11-29 |
公开(公告)号: | CN111248777A | 公开(公告)日: | 2020-06-09 |
发明(设计)人: | 戴尔芬·施瓦兹;弗雷德里克·瑟拉 | 申请(专利权)人: | SEB公司 |
主分类号: | A47J37/12 | 分类号: | A47J37/12 |
代理公司: | 北京市万慧达律师事务所 11111 | 代理人: | 王蕊;杨倩 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 包括 烹饪 设备 排空 底座 组件 | ||
1.一种包括电烹饪设备(2)和排空底座(3)的烹饪组件(1),所述电烹饪设备(2)包括适于收纳烹饪浴的容器(10),所述容器(10)配备有排空装置(60),所述排空装置(60)包括能够占据关闭的稳定返回位置和打开位置的阀(61),所述排空底座(3)包括排空容座(70)和容座盖(80),所述容座盖(80)设置有用于使所述烹饪浴流动到所述排空容座(70)中的通道(80a),所述排空底座(3)具有控制构件(4),所述烹饪组件(1)具有排空构造,在所述排空构造中,所述排空底座(3)承载所述电烹饪设备(2),并且在所述排空构造中,所述控制构件(4)将所述阀(61)移动到打开位置,其特征在于,当所述烹饪组件(1)具有所述排空构造时,所述电烹饪设备(2)搁置在所述容座盖(80)上。
2.根据权利要求1所述的烹饪组件(1),其特征在于,所述容座盖(80)包括侧向止挡件(81),所述侧向止挡件(81)构造成限制搁置在所述容座盖(80)上的所述电烹饪设备(2)的侧向运动。
3.根据权利要求2所述的烹饪组件(1),其特征在于,所述容座盖(80)具有包括凹陷部(82a,82b,82c,82d)的上表面,并且所述侧向止挡件(81)由所述凹陷部(82a,82b,82c,82d)的侧壁形成。
4.根据权利要求3所述的烹饪组件(1),其特征在于,所述容座盖(80)具有多个主侧部(83a,83b,83c,83d),并且所述凹陷部(82a,82b,82c,82d)中的至少一个布置在由两个相邻的主侧部(83a,83b,83c,83d)限定的角形部(84a,84b,84c,84d)中。
5.根据权利要求3或4中任一项所述的烹饪组件(1),其特征在于,所述容座盖(80)具有四个主侧部(83a,83b,83c,83d),并且所述凹陷部(82a,82b,82c,82d)中的每一个布置在由两个相邻的主侧部(83a,83b,83c,83d)限定的角形部(84a,84b,84c,84d)中。
6.根据权利要求2至5中任一项所述的烹饪组件(1),其特征在于,所述容座盖(80)具有周边边缘(87),并且所述侧向止挡件(81)由所述周边边缘(87)围绕。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的烹饪组件(1),其特征在于,所述电烹饪设备(2)包括容置所述容器(10)的外壳体(30),并且当所述烹饪组件(1)具有所述排空构造时,所述外壳体(30)搁置在所述容座盖(80)上。
8.根据权利要求7所述的烹饪组件(1),其特征在于,所述外壳体(30)形成裙部(32)。
9.根据权利要求7或8中任一项所述的烹饪组件(1),其特征在于,所述外壳体(30)包括独立的壳体脚(33a,33b,33c,33d),所述壳体脚(33a,33b,33c,33d)构造成当所述烹饪组件(1)具有所述排空构造时搁置在所述容座盖(80)上。
10.根据权利要求9以及权利要求3至5中任一项所述的烹饪组件(1),其特征在于,当所述烹饪组件(1)具有所述排空构造时,所述壳体脚(33a,33b,33c,33d)搁置在所述凹陷部(82a,82b,82c,82d)中。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的烹饪组件(1),其特征在于,所述排空容座(70)包括上支承件(72a,72b,72c,72d),当所述容座盖(80)关闭所述排空容座(70)时,所述上支承件(72a,72b,72c,72d)在所述容座盖(80)下方延伸。
12.根据权利要求11所述的烹饪组件(1),其特征在于,所述上支承件(72a,72b,72c,72d)出自所述排空容座(70)的侧壁(75)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于SEB公司,未经SEB公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911200353.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。