[发明专利]一种显示基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：

形成阳极；

在所述阳极上形成驱动结构层；

翻转上述包括阳极和驱动结构层的结构，在所述阳极上形成发光结构层，所述发光结构层包括：有机发光层及阴极；

在所述阳极上形成驱动结构层包括：

形成覆盖所述阳极的平坦化层；

在所述平坦化层上形成驱动结构层。

2.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述形成阳极包括：

在第一玻璃载板上形成第一牺牲层，在所述第一牺牲层上形成阳极。

3.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述形成阳极包括：

在第一玻璃载板上形成第一牺牲层，在所述第一牺牲层上形成像素界定层，在所述像素界定层上形成所述阳极。

4.根据权利要求3所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在所述像素界定层上形成所述阳极前，还包括：对所述像素界定层的开口区域进行曝光处理；

翻转上述包括阳极和驱动结构层的结构后，还包括：对所述像素界定层进行灰化，形成暴露出所述阳极的开口区域。

5.根据权利要求2、3或4所述的显示基板的制备方法，其特征在于，翻转上述包括阳极和驱动结构层的结构前，还包括：

在所述驱动结构层上压合依次设置有基底、第二牺牲层和第二玻璃载板的盖板，去除所述第一玻璃载板。

6.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述平坦化层使用聚酰亚胺或者有机硅氧烷材料制成。

7.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述平坦化层的厚度大于或等于2微米。

8.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在所述平坦化层上形成驱动结构层包括：

在所述平坦化层上形成绝缘层，在所述绝缘层上形成有源层；

在所述有源层上形成第一绝缘层以及设置在所述第一绝缘层上的栅电极；

形成覆盖所述栅电极的第二绝缘层；

在所述第二绝缘层上形成源电极和漏电极，所述源电极和漏电极分别与所述有源层连接，所述漏电极与所述阳极连接。

9.根据权利要求1至4任一所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在形成所述阳极时，通过一次构图工艺同时形成对位标记。

10.一种显示基板，其特征在于，采用如权利要求1至9任一项所述的显示基板的制备方法制备，包括：在基底上依次设置驱动结构层、阳极和发光结构层，其中：所述驱动结构层包括有源层、栅电极、源电极和漏电极，所述栅电极设置在所述有源层远离所述阳极的一侧，所述源电极和漏电极设置在所述栅电极远离所述阳极的一侧，所述发光结构层包括有机发光层及阴极；所述阳极和所述驱动结构层之间设置有平坦化层。

11.根据权利要求10所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括对位标记，且所述对位标记与所述阳极同层设置。

12.根据权利要求10或11所述的显示基板，其特征在于，所述平坦化层使用聚酰亚胺或者有机硅氧烷材料制成，所述平坦化层的厚度大于或等于2微米。

13.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求10至12任一所述的显示基板。