[发明专利]一种回流槽及具有回流槽的装置在审
申请号: | 201911204008.9 | 申请日: | 2019-11-29 |
公开(公告)号: | CN110938813A | 公开(公告)日: | 2020-03-31 |
发明(设计)人: | 李建中;张振;尚庆雷 | 申请(专利权)人: | 昆山东威科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C18/16 | 分类号: | C23C18/16;C25D17/00;C25D21/00 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 安志娇 |
地址: | 215300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 回流 具有 装置 | ||
1.一种回流槽,其特征在于,包括:
槽体(1),设置有排液口(4);
至少一组阻流组件(2),间隔设置在所述槽体(1)内,并阻挡在流体朝向所述槽体(1)内倾泻的路径上;所述阻流组件(2)将所述槽体(1)分隔成至少两个腔室,至少远离流体倾泻的源头的所述腔室适于连通所述排液口(4)。
2.根据权利要求1所述的回流槽,其特征在于,任一所述阻流组件(2)在竖直方向上的高度高于流体倾泻的路径在该阻流组件(2)所在位置的高度。
3.根据权利要求1所述的回流槽,其特征在于,至少两个相邻的所述腔室之间互相连通。
4.根据权利要求1所述的回流槽,其特征在于,所述排液口(4)设于所述槽体(1)的槽底。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的回流槽,其特征在于,还包括过液口,所述过液口设置在所述阻流组件(2)上。
6.根据权利要求5所述的回流槽,其特征在于,
所述槽体(1)位于流体流动方向上的槽壁上开设第一过板间隙(10);
任一所述阻流组件(2)上开设与所述第一过板间隙(10)相对应的第二过板间隙(21);
所述第二过板间隙(21)形成所述过液口。
7.根据权利要求6所述的回流槽,其特征在于,所述第一过板间隙(10)与所述第二过板间隙(21)均沿竖向设置。
8.根据权利要求7所述的回流槽,其特征在于,
任一所述阻流组件(2)底部悬空设置在所述槽体(1)的内侧槽壁上。
9.根据权利要求8所述的回流槽,其特征在于,任一所述阻流组件(2)包括:
至少两个阻流板(20),分别固定在所述槽体(1)相对的两侧槽壁上;
所述阻流板(20)之间间隔设置形成所述第二过板间隙(21)。
10.根据权利要求9所述的回流槽,其特征在于,相邻所述阻流组件(2)之间设置连接板(3);所述连接板(3)固定在所述槽体(1)的侧壁上。
11.根据权利要求10所述的回流槽,其特征在于,所述连接板(3)分别连接相邻所述阻流组件(2)中同侧的所述阻流板(20)。
12.根据权利要求11所述的回流槽,其特征在于,所述阻流板(20)的板面适于阻挡流体。
13.根据权利要求12所述的回流槽,其特征在于,任一所述阻流组件(2)中的两个所述阻流板(20)共面设置。
14.根据权利要求13所述的回流槽,其特征在于,所有所述阻流板(20)在竖直方向上的长度相等。
15.一种具有回流槽的装置,其特征在于,包括权利要求1-14中任一项所述的回流槽。
16.根据权利要求15所述的具有回流槽的装置,其特征在于,所述具有回流槽的装置为浸镀装置。
17.根据权利要求16所述的具有回流槽的装置,其特征在于,所述浸镀装置为化学镀线或电镀线。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山东威科技股份有限公司,未经昆山东威科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911204008.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理