[发明专利]低辐射炫彩膜及其制备方法

权利要求书

1.一种低辐射炫彩膜，其特征在于，包括能透射可见光的基材，以及依次交替层叠附着在所述基材上的透明氧化物层和功能层；

所述透明氧化物层至少为三层，每层的厚度独立地选自10nm～200nm；

所述功能层至少为两层，每层的厚度独立地选自0.1nm～30nm；所述功能层各层的总厚度至少为5nm；所述功能层为Ag金属或主要成分为Ag的合金，所述合金当中Ag的质量分数≥80％。

2.根据权利要求1所述的低辐射炫彩膜，其特征在于，所述透明氧化物层每层的厚度独立地选自50nm～150nm。

3.根据权利要求1所述的低辐射炫彩膜，其特征在于，所述功能层每层的厚度独立地选自5nm～10nm。

4.根据权利要求1所述的低辐射炫彩膜，其特征在于，所述合金中的其他金属选自Al、Cu、Zn、Cu、In、Pt、Pd以及Au中的一种或多种。

5.根据权利要求1～4任一项所述的低辐射炫彩膜，其特征在于，所述功能层中的金属有部分被氧化。

6.根据权利要求1～4任一项所述的低辐射炫彩膜，其特征在于，所述透明氧化物层主要成分为金属氧化物和/或金属掺杂物。

7.根据权利要求6所述的低辐射炫彩膜，其特征在于，所述金属氧化物选自TiO₂、SnO₂、ZnO、Nb₂O₅以及Ta₂O₅中的一种或多种。

8.根据权利要求7所述的低辐射炫彩膜，其特征在于，所述金属掺杂物中的掺杂材料选自Al、Ga、Zr、B、In、Y、Sb、Mo中的至少一种，被掺杂的金属氧化物选自氧化锡和/或氧化锌。

9.根据权利要求1～4、7、8任一项所述的低辐射炫彩膜，其特征在于，所述基材选自玻璃或柔性塑料材料。

10.根据权利要求9所述的低辐射炫彩膜，其特征在于，所述基材具有被动式的辐射制冷功能。

11.根据权利要求10所述的低辐射炫彩膜，其特征在于，所述基材掺杂有无机颗粒，且所述基材在7μm～14μm的发射率在75％以上。

12.权利要求1～11任一项所述的低辐射炫彩膜的制备方法，其特征在于，包括：在所述基材上通过磁控溅射工艺上依次溅射所述透明氧化物层和所述功能层。

13.表面贴附有权利要求1～11任一项所述的低辐射炫彩膜的玻璃窗、玻璃门、玻璃墙或玻璃顶。