[发明专利]双齿硫铂三重态发射体及其在有机发光二极管中的应用有效

专利信息
申请号: 201911207365.0 申请日: 2019-11-29
公开(公告)号: CN111018919B 公开(公告)日: 2023-06-30
发明(设计)人: 支志明;毛茂;张玉贞;程刚 申请(专利权)人: 香港大学深圳研究院
主分类号: C07F15/00 分类号: C07F15/00;C09K11/06;H10K50/11;H10K71/12;H10K71/15
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邹宗亮;牟科
地址: 518057 广东省深圳市南山区粤海*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 双齿硫铂 三重态 发射 及其 有机 发光二极管 中的 应用
【说明书】:

发明涉及双齿硫铂三重态发射体及其在有机发光二极管中的应用。具体地,本发明公开了一系列新的高效磷光发射体,可用于OLED显示器和照明领域。这些磷光发射体用作发射层材料,成为OLED器件的核心组件。

技术领域

本发明涉及有机电致发光器件领域,具体涉及一种双齿硫铂三重态发射体及其在有机发光二极管中的应用。

背景技术

有机电致发光器件(OLED)因其视角广、亮度高、能耗低并可制备柔性器件等诸多优点,而倍受关注,被称为将主宰未来显示世界的关键技术。

近年来,大量研究表明,在众多重金属元素配合物中,铂配合物被认为是OLEDs磷光材料的最理想选择之一。由于重元素效应导致的旋轨耦合作用,铂配合物的往往具有较高的发光效率和器件的整体性能。

作为磷光材料,铂配合物的激发态寿命一般具有微秒级的,容易造成铂配合物的三重态-三重态以及三重态-激化子之间的磷光淬灭。另外,在目前的常用的材料中,空穴传输材料的空穴迁移率远高于电子传输材料的电子迁移率,而常用的主体材料也以空穴传输为主,这会导致大量多余的空穴在发光层和电子传输层界面的聚集。这些因素都会导致效率的降低和严重的效率滚降。提高铂配合物的电子传输能力,能够有效的增加电子在发光层的传输和分布、拓宽电子-空穴的区域、平衡电子-空穴对的数量,极大的提高器件的效率,降低效率的滚降。

因此,本领域对同时具有高发光效率和电子迁移率的铂配合物存在需求。

发明内容

为解决以上技术问题,本发明人设计并合成了一系列双齿硫铂三重态磷光配合物。

本发明提供的一系列全新的高效磷光发射体可用于OLED显示器和照明领域。当这些磷光发射体用作发射层材料时,构成了OLED器件中的核心组件。

本发明的一个目的在于提供双齿硫铂三重态发射体,以为制造耐用和高性能的OLED器件提供足够的材料,使得该OLED器件可用于下一代显示技术和照明技术。

本发明的另一目的在于提供一种合成方法,制备本发明的新型双齿硫铂三重磷光配合物。

本发明的有益效果:本发明提供的铂配合物具有发光效率高、电子迁移率高和化学性质稳定、易升华提纯的特点。所述铂配合物的制备方法简单,产率较高。由于氮杂环的引入,配合物的电子传输性能能够有效调控,为有机电致发光显示器以及照明光源的设计生产提供了便利。提供基于Pt配合物的新系列OLED发射体。

附图说明

为了更清楚地说明本发明的技术方案,下面将结合附图对本发明作详细介绍。显而易见地,附图仅仅例示本发明的一些具体实施方案,并非对本发明做出限制。

图1为本发明配合物YZ047的电致发光光谱。

图2为含有YZ047的器件的亮度-EQE曲线。

图3为含有YZ047的器件的电压-电流特性:(a)电压-电流密度曲线,和(b)电压-亮度曲线。最大亮度为3950cd m-2

图4为(左)在DCM中(1-4)的电子吸收光谱,(右)固态的(1-4)标准化发射光谱。

图5为(左)在DCM中(5-8)的电子吸收光谱,(右)固态的(5-8)标准化发射光谱。

图6为在2wt%PMMA膜(1-48)中的标准化发射光谱。

图7为在77K的2-Me-THF中的标准化发射光谱。

图8为YZ045、YZ052、YZ047和YZ050的结构图。

具体实施方案

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于香港大学深圳研究院,未经香港大学深圳研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911207365.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top