[发明专利]消泡装置在审

专利信息
申请号: 201911212080.6 申请日: 2019-12-02
公开(公告)号: CN112973193A 公开(公告)日: 2021-06-18
发明(设计)人: 蔡瑞铭;李明仁;卢保胜;徐荣华;沈堂奎 申请(专利权)人: 健鼎(无锡)电子有限公司
主分类号: B01D19/00 分类号: B01D19/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 江苏省无锡市*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 装置
【说明书】:

发明公开一种消泡装置,适用于PCB的DES制作工艺,该消泡装置提供以设置在DES制作工艺的显影槽外的副槽上;该消泡装置包括有一本体与一真空产生器,其中,本体内部具有泡沫破坏区与出液区,并且本体设置有排气口以及位于该泡沫破坏区上方的进液口;该真空产生器运转时通过排气口使本体内部产生负压力,进而通过第一管路将副槽内的产生泡沫的药水溶液吸入本体内,使药水溶液通过泡沫破坏区被消除泡沫后再通过出液区排出,排出的药水溶液经过滤后再回收输送至显影槽利用。

技术领域

本发明涉及使用于印刷电路板(Printed Circuit Board,以下简称「PCB」)的外层显影蚀刻剥墨线(以下简称「DES」)制作工艺的消泡装置。

背景技术

PCB在化学湿制作工艺中的DES制作工艺需要在显影槽使用大量溶解药水(碳酸钠溶液)来溶解PCB上的油墨及其他物质,随着大量处理PCB时被溶解药水冲刷下来的油墨与杂质愈来愈多,溶解药水的浓度也随着降低,致使溶解效果越来越差,溶解药水因来不及溶解油墨与杂质而不定时地会在显影槽产生大量泡沫而溢出。

面对显影槽溢出大量泡沫的问题,现有的解决方式是在显影槽外添加一个相通的副槽,当显影槽内的液位高于副槽某一液面后使泡沫随着药水溶液自动从连接显影槽的废水管排出至副槽。然而这种做法会制造多余的大量污水往外排出,不仅增加溶解药水的成本,而且污染环境。

发明内容

本发明的目的在于提供一种在PCB湿制作工艺中减少使用溶解药水量以降低成本,并且减少排放污水以降低污染环境的问题。

本发明的特征是提供一种使用于PCB的DES制作工艺的消泡装置,该消泡装置提供以设置在DES制作工艺的显影槽外的副槽上;该消泡装置包括有一本体与一真空产生器,其中,本体内部具有泡沫破坏区与出液区,并且本体设置有排气口以及位于该泡沫破坏区上方的进液口;该真空产生器运转时通过排气口使本体内部产生负压力,进而通过第一管路将副槽内的产生泡沫的药水溶液吸入本体内,使药水溶液通过泡沫破坏区被消除泡沫后再通过出液区排出,排出的药水溶液经过滤后再回收输送至显影槽利用。

本发明的消泡装置提供以设置在DES制作工艺的显影槽外的副槽上;包括:一本体,内部具有由上往下配置的一泡沫破坏区、一缓冲区、一静置区与一出液区,并且该本体设置有一排气口以及一进液口,其中该进液口位于该泡沫破坏区上方并且连接一第一管路,该第一管路往该本体外延伸;以及一真空产生器,设于该本体外面并且以一第二管路连接该排气口,该真空产生器运转时使该本体内部产生负压力,其中,通过该负压力将药水溶液从该第一管路吸入该本体内部后,使该药水溶液通过重力依序通过该泡沫破坏区、该缓冲区、该静置区以消除泡沫,再使该药水溶液通过该出液区的一出液口排出。

较佳者,该本体内部区隔出有相邻的一第一空间与一第二空间,该泡沫破坏区、该缓冲区、与该静置区设于该第一空间,该出液区位于该第一空间与该第二空间的下方。

较佳者,该泡沫破坏区设有至少一个倾斜板,该倾斜板设有至少一个通孔,该倾斜板上设有一滤棉层。

在一适当实施例中,可以包含有二个该倾斜板,该二个倾斜板的倾斜方向互为相反且呈上下配置,每一个该倾斜板均设置有该通孔与该过滤棉层。

较佳者,该通孔位于该倾斜板的最低位置。

较佳者,该缓冲区可以包括有位于该泡沫破坏区下方的至少一个隔板,该隔板设有多个洞孔,该隔板上配置有多个颗粒物,并且在该等颗粒物之间形成缝隙。

在一适当实施例中,该颗粒物可以是弹珠。

较佳者,该出液口连接一第三管路,并且该第三管路设置有用以控制该液体是否通过该第三管路的一电磁阀。

较佳者,该第二空间可以设有一挡液板,用以避免液体被吸入该排气口。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于健鼎(无锡)电子有限公司,未经健鼎(无锡)电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911212080.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top