[发明专利]用于EUV真空环境中的光传输装置及光刻机有效
申请号: | 201911212715.2 | 申请日: | 2019-11-29 |
公开(公告)号: | CN110908249B | 公开(公告)日: | 2022-02-11 |
发明(设计)人: | 徐天伟;王丹;马向红;齐威;陈进新;齐月静 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴梦圆 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 euv 真空 环境 中的 传输 装置 光刻 | ||
1.一种用于EUV真空环境中的光传输装置,其特征在于,包括:
光纤连接器,设置通孔,并包括;
通光法兰,在所述通光法兰的两侧分别设置法兰卡扣;
两光纤束卡扣,分别与所述通光法兰两侧的法兰卡扣匹配卡固;且在所述光纤束卡扣上设置光纤束安装孔,用于将所述光纤束连接形成光纤束组件;
通光介质,设置于所述光纤连接器的通孔内;
两光纤束,分别连接于所述光纤连接器的两侧,且两所述光纤束分别与所述通光介质的中心对准,实现分段的光纤束之间的光的传输,
其中,处于真空腔内的光纤束与对应的处于真空腔内的光纤束卡扣卡接;处于真空腔外的光纤束与对应处于真空腔外的光纤束卡扣胶粘结或者卡接。
2.如权利要求1所述的用于EUV真空环境中的光传输装置,其特征在于,所述通光介质包括光波导或者光学镜片。
3.如权利要求2所述的用于EUV真空环境中的光传输装置,其特征在于,所述通光介质为光波导,所述通光法兰的材质为可伐合金;
其中,所述光波导包括柱形光波导或者矩形光波导;
其中,所述光波导与通光法兰之间真空封接。
4.如权利要求2所述的用于EUV真空环境中的光传输装置,其特征在于,所述通光介质为光学镜片,所述通光法兰的材质为真空用不锈钢;
其中,所述光学镜片设置为两个,在两个所述光学镜片之间设置镜片垫圈,在两个所述光学镜片相背对侧分别设置用于密封的镜片密封圈和用于限位固定的镜片压环。
5.一种EUV光刻机,其特征在于,包括:
如权利要求1至4任一项所述的用于EUV真空环境中的光传输装置;
真空腔,包括真空腔壁,在所述真空腔壁上设置光纤穿孔;所述用于EUV真空环境中的光传输装置的光纤连接器设置于所述真空腔对应所述光纤穿孔的外侧,所述光纤连接器与所述真空腔壁连接;
其中,与所述光纤连接器相连的一所述光纤束通过光纤穿孔延伸至所述真空腔内,实现所述真空腔内外侧的光的传输。
6.如权利要求5所述的EUV光刻机,其特征在于,在所述光纤穿孔的外围,所述通光法兰与所述真空腔壁之间设置法兰密封圈。
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