[发明专利]排液装置及晶圆处理设备在审
申请号: | 201911213584.X | 申请日: | 2019-12-02 |
公开(公告)号: | CN112992714A | 公开(公告)日: | 2021-06-18 |
发明(设计)人: | 陈创 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人: | 孙佳胤 |
地址: | 230001 安徽省合肥市蜀山*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 处理 设备 | ||
该发明涉及一种排液装置及晶圆处理设备,能够缓解排液管排液不畅的问题。其中,所述排液装置包括:排液管,用于排液;过滤器,设置至所述排液管,用于滤除流入至所述排液管内的液体中的固体杂质,所述过滤器包括至少两个滤网,且所有所述滤网层叠设置。
技术领域
本发明涉及晶圆生产加工设备领域,具体涉及一种排液装置及晶圆处理设备。
背景技术
在晶圆生产加工过程中,有很多场合都会用到化学液,也需要对使用完毕的化学液进行排出,以帮助进行机台的清洁等。
但现有技术中,经常出现排液不顺畅的情况。这将严重影响机台排液,严重时将会导致机台宕机,影响生产效率。
发明内容
本发明的目的在于提供一种排液装置及晶圆处理设备,能够缓解排液管排液不畅的问题。
为了解决上述技术问题,以下提供了一种排液装置,包括:排液管,用于排液;过滤器,设置至所述排液管,用于滤除流入至所述排液管内的液体中的固体杂质,所述过滤器包括至少两个滤网,且所有所述滤网层叠设置。
可选的,所述过滤器中至少有两个滤网的网眼大小不同。
可选的,所述过滤器的各个滤网的网眼尺寸均不相同,且所述滤网按网眼的尺寸大小依次排布于所述排液管内。
可选的,网眼最大的滤网距离所述排液管的入口最近,网眼最小的滤网距离所述排液管的入口最远。
可选的,所述滤网由聚醚醚酮、聚四氟乙烯、石英中的至少一种制成。
可选的,所述滤网包括实心区域以及网眼区域,所述网眼区域内设置有网眼,且所述网眼区域环绕所述实心区域设置,呈环状。
可选的,所述滤网随网眼大小的不同配置为不同的颜色。
可选的,所述过滤器包括第一滤网和第二滤网,所述第一滤网的网眼尺寸大于第二滤网的网眼尺寸,且所述第一滤网靠近所述排液管的入口设置,所述第二滤网远离所述排液管的入口设置;所述第一滤网被设置为浅色滤网,所述第二滤网被设置为深色滤网。
可选的,所述过滤器可拆卸的安装至所述排液管,所述滤网也可拆卸的至安装至所述过滤器。
为了解决上述技术问题,以下还提供了一种晶圆处理设备,包括所述的排液装置。
本发明的排液装置及晶圆处理设备在排液管设置了至少两层层叠设置的滤网,能够实现对进入至所述排液管内的液体的至少两次过滤,有效防止固体杂质在所述排液管内某处淤积,导致所述排液管堵塞的情况的发生。
附图说明
图1为本发明的一种具体实施方式中的排液装置的立体结构示意图。
图2为本发明的一种具体实施方式中的排液装置的主视结构示意图。
图3为本发明的一种具体实施方式中的排液装置的俯视结构示意图。
图4为本发明的一种具体实施方式中第二滤网的局部示意图。
图5为本发明的一种具体实施方式中晶圆处理设备的结构示意图。
具体实施方式
研究发现,出现排液不顺畅的原因在于,排放机台使用完毕的化学液时,化学液内通常会有一些固体的副产物被同时排向排液管,一旦这些副产物淤积在排液管中,就会造成排液管的堵塞,引起排液不畅。例如化学机械抛光机台,其使用研磨液(Slurry)和抛光垫(Pad)对晶圆进行化学机械研磨,需要排出研磨液。在使用研磨液对晶圆进行研磨的过程中,研磨液的结晶、晶圆在研磨过程中破损形成的破碎晶片、晶圆在研磨过程中形成的粉末等都很容易在排液管的弯角或最低点处沉淀堆积,引发排液管堵塞的问题。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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