[发明专利]一种生物蛋白膜表面图案化制作方法有效
| 申请号： | 201911214443.X | 申请日： | 2019-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN110941139B | 公开（公告）日： | 2021-04-27 |
| 发明（设计）人： | 陶虎;周志涛 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫;贾允 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 生物 蛋白 表面 图案 制作方法 | ||
1.一种生物蛋白膜表面图案化制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1.制备超材料阵列；
S2.准备生物蛋白溶液；通过旋涂处理将所述生物蛋白溶液旋涂于衬底上，形成生物蛋白膜；
S3.将所述超材料阵列与所述生物蛋白膜接触，通过电磁波对所述超材料阵列进行辐射；
S4.移动所述生物蛋白膜，在所述生物蛋白膜表面进行图案直写；
S5.通过显影液对所述生物蛋白膜进行显影。
2.根据权利要求1所述的生物蛋白膜表面图案化制作方法，其特征在于，所述步骤S1包括以下步骤：
S11.准备基底材料，在所述基底材料上形成绝缘层；
S12.在所述绝缘层的一表面光刻并刻蚀形成腐蚀窗口；
S13.在所述绝缘层的另一表面通过电子束蒸发金属材料；
S14.对蒸发有所述金属材料的基底材料进行光刻、刻蚀，形成超材料阵列；
S15.采用腐蚀液从所述腐蚀窗口释放所述超材料阵列。
3.根据权利要求2所述的生物蛋白膜表面图案化制作方法，其特征在于，
所述基底材料为硅片；
所述绝缘层为氮化硅层或二氧化硅层，其通过低温化学气相沉积法形成，预应力为50MPa-200MPa，厚度为100nm-5000nm；
所述金属材料选自Cr/Au、Ti/Au、TiW/Au、Ti/Cu、TiW/Cu、Ag和Al中的一种，其厚度为1nm/10nm或500nm/5000nm；
所述腐蚀液为硅腐蚀液。
4.根据权利要求1所述的生物蛋白膜表面图案化制作方法，其特征在于，所述步骤S1包括以下步骤：
S1a.准备基底材料；
S1b.在所述基底材料上通过电子束蒸发金属材料；
S1c.对蒸发有所述金属材料的基底材料进行光刻、刻蚀，形成超材料阵列。
5.根据权利要求4所述的生物蛋白膜表面图案化制作方法，其特征在于，
所述基底材料选自高阻硅、聚乙烯、聚丙烯和聚四氟乙烯中的一种；
所述金属材料选自Cr/Au、Ti/Au、TiW/Au、Ti/Cu、TiW/Cu、Ag和Al中的一种，其厚度为1nm/10nm或500nm/5000nm。
6.根据权利要求1所述的生物蛋白膜表面图案化制作方法，其特征在于，所述衬底选自高阻硅、聚乙烯、聚丙烯和聚四氟乙烯中的一种。
7.根据权利要求1所述的生物蛋白膜表面图案化制作方法，其特征在于，所述旋涂处理的转速为1000r/min-5000r/min，所述旋涂处理的时间为10s-300s。
8.根据权利要求2或4所述的生物蛋白膜表面图案化制作方法，其特征在于，所述步骤S3包括以下步骤：
将所述超材料阵列蒸发有金属材料的一侧贴附于所述生物蛋白膜的表面，通过电磁波对所述超材料阵列进行辐射。
9.根据权利要求1所述的生物蛋白膜表面图案化制作方法，其特征在于，所述电磁波的场强大小为1V/cm-100MV/cm。
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