[发明专利]一种铯锡溴-二硫化钼复合材料光学特性的仿真方法有效

专利信息
申请号: 201911215021.4 申请日: 2019-12-02
公开(公告)号: CN110929409B 公开(公告)日: 2021-07-27
发明(设计)人: 贠江妮;樊浩东;满振武;杨锦;张艳妮;郭铭芷 申请(专利权)人: 西北大学
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20;G16C60/00;G16C20/80
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 高博
地址: 710127 陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 铯锡溴 二硫化钼 复合材料 光学 特性 仿真 方法
【权利要求书】:

1.一种铯锡溴-二硫化钼复合材料光学特性的仿真方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1、使用Materials Studio的Project模块,分别建立7层铯锡溴表面模型和单层二硫化钼模型;

S2、对步骤S1的7层铯锡溴表面模型和单层二硫化钼模型进行优化,具体为:

价原子构型分别为Mo原子为4d55s1,S原子为3s23p4,Cs原子为5s25p66p1,Sn原子为4d105s25p2,Br原子为4s24p5;平面波的截止能量设置为400eV,CsBr-和SnBr2-终端的CsSnBr3(100)表面的布里渊区积分使用4×4×1K点网格;几何优化以1×10-5eV/原子的能量会聚完成;原子的最大力收敛标准为原子位移小于应力小于等于0.05GPa;

S3、将优化好的7层铯锡溴表面和单层二硫化钼模型构建CsBr/MoS2范德华结合的复合模型,复合模型包括CsBr/MoS2和SnBr2/MoS2,对复合模型进行几何结构优化,将初始层间距设置为采用布里渊区选择高对称路径对优化好的模型进行能带计算与分析,计算复合模型的能带结构,差分电荷密度,分析密立根电荷布局、光吸收和光电导性质,获得异质结构相对于非异质结构光学特性提升结果,完成仿真。

2.根据权利要求1所述的铯锡溴-二硫化钼复合材料光学特性的仿真方法,其特征在于,步骤S1中,7层钙钛矿晶体表面包括CsBr面或SnBr2面。

3.根据权利要求1所述的铯锡溴-二硫化钼复合材料光学特性的仿真方法,其特征在于,布里渊区选择高对称路径为:

X(0.5,0,0)—M(0.5,0.5,0)—F(0,0.5,0)—Γ(0,0,0)—X(0.5,0,0)。

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