[发明专利]硬涂膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201911215428.7 | 申请日： | 2019-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN111378194B | 公开（公告）日： | 2023-04-18 |
| 发明（设计）人： | 安钟南;高健赫;高秉瑄;朴相胤;朴尽秀;尹浩哲;张太硕 | 申请（专利权）人： | SK新技术株式会社;爱思开高新信息电子材料株式会社 |
| 主分类号： | C08J7/046 | 分类号： | C08J7/046;C08L79/08;C09D183/04;G02B1/16 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 蒋洪之;罗达 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 硬涂膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种硬涂膜，其包括：
折射率为1.51-1.57的聚酰胺酰亚胺基底层；和
折射率为1.49-1.54的硬涂层，所述硬涂层设置在所述基底层的至少一个表面上，其中，
根据ASTM D111测得的所述基底层在80 μm的厚度下的拉伸模量为3-7 GPa，
其中，所述基底层包括通过使(a)芳族二胺化合物、(b)含有芳环的二酐化合物和含有脂肪族环的二酐化合物和(c)芳族二羧酸化合物或其衍生物共聚而形成的聚酰胺酰亚胺树脂，且
所述基底层与所述硬涂层之间的折射率差为0.05以下，
其中，所述硬涂层包括环氧硅烷树脂。
2.根据权利要求1所述的硬涂膜，其中，所述基底层在388nm处的透光率为75%以下。
3.根据权利要求1所述的硬涂膜，其中，所述基底层在80 μm的厚度下的黄色指数为3以下。
4.根据权利要求1所述的硬涂膜，其中，所述折射率差为0.02以下。
5.根据权利要求1所述的硬涂膜，其中，所述(a)芳族二胺化合物包括氟取代的芳族二胺化合物。
6.根据权利要求1所述的硬涂膜，其中，所述(c)芳族二羧酸化合物或其衍生物包括对苯二甲酰二氯或间苯二甲酰二氯。
7.根据权利要求1所述的硬涂膜，其中，所述环氧硅烷树脂包括2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷的固化产物。
8.根据权利要求1所述的硬涂膜，其中，所述硬涂层包括2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷和三甲氧基苯基硅烷的固化产物。
9.一种制备硬涂膜的方法，所述方法包括：
形成折射率为1.51-1.57的聚酰胺酰亚胺基底层；以及
在所述基底层的至少一个表面上形成折射率为1.49-1.54的硬涂层，所述基底层与所述硬涂层之间的折射率差为0.05以下，其中
根据ASTM D111测得的所述基底层在80 μm的厚度下的拉伸模量为3-7 GPa，且
其中，所述基底层包括通过使(a)芳族二胺化合物、(b)含有芳环的二酐化合物和含有脂肪族环的二酐化合物和(c)芳族二羧酸化合物或其衍生物共聚而形成的聚酰胺酰亚胺树脂，
其中，所述硬涂层包括环氧硅烷树脂。
10.根据权利要求9所述的制备硬涂膜的方法，其中，所述基底层由聚酰胺酰亚胺树脂形成，所述聚酰胺酰亚胺树脂通过将2,2’-双(三氟甲基)联苯胺、4,4’-(六氟异亚丙基)二邻苯二甲酸酐、环丁烷四羧酸二酐、对苯二甲酰二氯和间苯二甲酰二氯共聚而形成。
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